[實用新型]一種用于三維曲面的納米級壓印裝置有效
| 申請號： | 201721866517.4 | 申請日： | 2017-12-27 |
| 公開（公告）號： | CN207663209U | 公開（公告）日： | 2018-07-27 |
| 發明（設計）人： | 冀然 | 申請（專利權）人： | 青島天仁微納科技有限責任公司 |
| 主分類號： | G03F7/00 | 分類號： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 266000 山東省青島市城陽區長城*** | 國省代碼： | 山東;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 壓印 三維 凹凸形狀 納米級 膠層 壓印裝置 三維曲面 壓印模具 母模板 底面 基底 固化 本實用新型 微結構 覆蓋 | ||
1.一種用于三維曲面的納米級壓印裝置，其特征在于，包括：
母模板，其頂部形成有設定凹凸形狀；
基底，其頂部形成有被壓印三維曲面；
PDMS膠層，其底面形成有與所述設定凹凸形狀相配合的形狀，所述PDMS膠層的底面覆蓋于所述被壓印三維曲面；以及
保持機構，通過與所述PDMS膠層對接固化，以形成為將所述設定凹凸形狀壓印于所述被壓印三維曲面的壓印模具。
2.根據權利要求1所述的納米級壓印裝置，其特征在于，所述母模板頂部為水平設置的平面，所述設定凹凸形狀為多個互呈間距凸起于所述母模板頂部的凸起。
3.根據權利要求2所述的納米級壓印裝置，其特征在于，所述設定凹凸形狀為半球形凸起。
4.根據權利要求3所述的納米級壓印裝置，其特征在于，所述PDMS膠層底面為與所述設定凹凸形狀相配合的多個凹陷部。
5.根據權利要求1所述的納米級壓印裝置，其特征在于，
所述母模板頂部為水平設置的平面，所述PDMS膠層的底面與所述母模板頂部配合時，所述PDMS膠層呈平板狀。
6.根據權利要求1所述的納米級壓印裝置，其特征在于，所述PDMS膠層的底面與所述母模板頂部配合時，所述PDMS膠層呈0.5mm厚的平板狀。
7.根據權利要求1所述的納米級壓印裝置，其特征在于，
所述保持機構包括：
套筒，所述PDMS膠層及所述基底套裝于所述套筒一端內，并且所述PDMS膠層與所述套筒密封對接；
PDMS固定部，通過液態PDMS膠固化于所述套筒內，使所述PDMS膠層與所述套筒相固定；以及
承壓板，所述承壓板固定于所述套筒的另一端處。
8.根據權利要求1所述的納米級壓印裝置，其特征在于，
所述被壓印三維曲面的中心與所述PDMS膠層的中心重合。
9.根據權利要求1所述的納米級壓印裝置，其特征在于，
所述被壓印三維曲面為豎向凸起的半球形凸起部。
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