[實用新型]一種電鍍廢水深度處理系統

有效

• 申請號: 201721864090.4
• 申請日: 2017-12-27
• 公開（公告）號: CN207891210U
• 公開（公告）日: 2018-09-21
• 發明（設計）人: 范濤;姚瀚威;劉鵬;張文平
• 申請（專利權）人: 東莞道匯環保科技股份有限公司
• 主分類號: C02F9/14
• 分類號: C02F9/14;C02F103/16;C02F101/16;C02F101/22
• 代理公司: 北京隆源天恒知識產權代理事務所(普通合伙) 11473
• 代理人: 閆冬;吳航

1.一種電鍍廢水深度處理系統，其特征在于，包括：第一預處理裝置，第二預處理裝置，第三預處理裝置，所述第一、第二、第三預處理裝置相互獨立不連接且所述第一、第二、第三預處理裝置通過管道分別連接至綜合集水調節池；自所述綜合集水調節池通過管道按順序依次連接綜合水fenton氧化池、第三沉淀池、二級破氰池、第四沉淀池、生化子系統、深度氧化池及第五沉淀池。

2.如權利要求1所述的電鍍廢水深度處理系統，其特征在于，所述第一預處理裝置包括：含氰廢水調節池，所述含氰廢水調節池連接有一第一真空泵和第二真空泵，所述第一真空泵和第二真空泵管道匯合集中連接至第一破氰池，所述第一破氰池依次連接第二破氰池和過流池，所述過流池最終管道連接至所述綜合集水調節池。

3.如權利要求2所述的電鍍廢水深度處理系統，其特征在于，所述第二預處理裝置包括：含鉻廢水調節池，所述含鉻廢水調節池連接有第三真空泵和第四真空泵，所述第三真空泵和第四真空泵管道匯合集中連接至Cr⁶⁺還原池，所述Cr⁶⁺還原池依次連接第一快混池、第一慢混池及第一沉淀池；所述第一沉淀池最終管道連接至所述綜合集水調節池。

4.如權利要求3所述的電鍍廢水深度處理系統，其特征在于，所述第三預處理裝置包括：含鎳廢水PH調節池，所述含鎳廢水PH調節池依次連接第二快混池、第二慢混池、第二沉淀池、含鎳廢水中間池，所述含鎳廢水中間池連接有第五真空泵和第六真空泵，所述第五真空泵和第六真空泵管道匯合集中連接至所述綜合集水調節池。

5.如權利要求4所述的電鍍廢水深度處理系統，其特征在于，所述綜合集水調節池通過管道還連接有一第七真空泵和一第八真空泵，所述第七真空泵和第八真空泵通過匯合集中管道連接至綜合水fenton氧化池。

6.如權利要求4或5所述的電鍍廢水深度處理系統，其特征在于，所述綜合水fenton氧化池包括：第一還原池，所述第一還原池依次連接第三快混池、第三慢混池以及所述第三沉淀池；所述第三沉淀池通過管道連接至所述二級破氰池。

7.如權利要求6所述的電鍍廢水深度處理系統，其特征在于，所述二級破氰池包括：第一調節池，所述第一調節池依次連接重金屬反應池、第四慢混池以及所述第四沉淀池；所述第四沉淀池還連接有一回調池，所述回調池通過管道連接至所述生化子系統。

8.如權利要求7所述的電鍍廢水深度處理系統，其特征在于，所述生化子系統包括：厭氧池，所述厭氧池依次連接一級好氧池、二級好氧池、第二PH調節池，所述第二PH調節池最終通過管道連接至所述深度氧化池。

9.如權利要求8所述的電鍍廢水深度處理系統，其特征在于，所述綜合水fenton氧化池、還原池、一級好氧池、二級好氧池及深度氧化池內部均設有連接氣源的管道，用于接收氣源進行氧化。

10.如權利要求9所述的電鍍廢水深度處理系統，其特征在于，所述第一破氰池、第二破氰池、Cr6+還原池、第一快混池、第一慢混池、含鎳廢水PH調節池、第二快混池、第二慢混池、第三快混池、第三慢混池、第一調節池、重金屬反應池、第四慢混池、回調池、第二PH調節池及第三PH調節池內均設置有機械攪拌設備，用于均勻攪拌。