[實(shí)用新型]一種用于二代測序DNA文庫構(gòu)建的自動(dòng)化液體處理工作站有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201721852358.2 | 申請日： | 2017-12-26 |
| 公開（公告）號： | CN208454930U | 公開（公告）日： | 2019-02-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 潘偉業(yè);彭瓊芳;夏永恒;玄兆伶;李大為;梁峻彬;陳重建 | 申請（專利權(quán)）人： | 安諾優(yōu)達(dá)基因科技（北京）有限公司 |
| 主分類號： | C12M1/00 | 分類號： | C12M1/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 100176 北京市大興區(qū)北京經(jīng)濟(jì)*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 自動(dòng)化液體 工作臺面 測序 磁珠 構(gòu)建 本實(shí)用新型 工作站 儲存槽 儲油槽 核酸 存儲 平行樣本 處理量 接收板 洗脫液 脫液 洗脫 懸液 移液 清洗 自動(dòng)化 容納 | ||
1.一種用于二代測序DNA文庫構(gòu)建的自動(dòng)化液體處理工作站，其包括工作臺面和移液模塊，其中，所述工作臺面包括儲油槽，所述儲油槽用于存儲低密度油；所述自動(dòng)化液體處理工作站不包括揭膜/封膜模塊。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動(dòng)化液體處理工作站，其中，所述儲油槽位的大小為標(biāo)準(zhǔn)板位大小的1/5以下。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動(dòng)化液體處理工作站，其中，所述工作臺面的整體大小為35個(gè)標(biāo)準(zhǔn)板位以下。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動(dòng)化液體處理工作站，其中，所述自動(dòng)化液體處理工作站還包括自動(dòng)控制模塊，所述自動(dòng)控制模塊包括用于對自動(dòng)化液體處理工作站進(jìn)行控制的軟件。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動(dòng)化液體處理工作站，其中，所述移液模塊包括機(jī)械臂和移液頭。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動(dòng)化液體處理工作站，其中，所述工作臺面還包括吸頭存放位，所述吸頭存放位用于存放核酸磁珠純化操作所需的吸頭。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動(dòng)化液體處理工作站，其中，所述工作臺面還包括磁吸附/分離模塊，用于吸附/分離磁珠。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動(dòng)化液體處理工作站，其中，所述工作臺面還包括清洗液存儲槽，所述清洗液存儲槽用于存放核酸磁珠純化操作所需的清洗液。
9.一種用于二代測序DNA文庫構(gòu)建的自動(dòng)化液體處理工作站，其包括工作臺面和移液模塊，其中，
所述工作臺面還包括磁珠儲存槽，所述磁珠儲存槽用于存儲用于純化核酸的磁珠懸液；
所述工作臺面不包括用于容納包含從磁珠洗脫的核酸的上清洗脫液的洗脫液接收板。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的自動(dòng)化液體處理工作站，其中，所述工作臺面還包括磁吸附/分離模塊，用于吸附/分離所述磁珠。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的自動(dòng)化液體處理工作站，其中，所述工作臺面還包括清洗液存儲槽，所述清洗液存儲槽用于存放核酸磁珠純化操作所需的清洗液。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的自動(dòng)化液體處理工作站，其中，所述自動(dòng)化液體處理工作站還包括自動(dòng)控制模塊，所述自動(dòng)控制模塊包括用于對自動(dòng)化液體處理工作站進(jìn)行控制的軟件。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的自動(dòng)化液體處理工作站，其中，所述工作臺面還包括吸頭存放位，所述吸頭存放位用于存放核酸磁珠純化操作所需的吸頭。
14.根據(jù)權(quán)利要求9所述的自動(dòng)化液體處理工作站，其中，所述移液模塊包括機(jī)械臂和移液頭。
15.根據(jù)權(quán)利要求9所述的自動(dòng)化液體處理工作站，其中，所述工作臺面的整體大小為35個(gè)標(biāo)準(zhǔn)板位以下。
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