[實用新型]一種可改變加熱面積的單層電磁線盤及采用其的電磁爐有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201721849317.8 | 申請日： | 2017-12-26 |
| 公開（公告）號： | CN207995439U | 公開（公告）日： | 2018-10-19 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 顏定勇;田春筍;張秀文 | 申請（專利權(quán)）人： | 深圳國創(chuàng)名廚商用設(shè)備制造有限公司 |
| 主分類號： | H05B6/44 | 分類號： | H05B6/44;H05B6/36;H05B6/06 |
| 代理公司： | 北京易捷勝知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) 11613 | 代理人： | 齊勝杰 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 線圈盤 電磁線盤 控制裝置 電感量 可改變 單層 加熱 本實用新型 電磁爐 加熱盤 盤架 家用電器技術(shù) 加熱均勻性 軟件程序 同一層面 諧振電路 直接切換 控制線 小電感 盤繞 差量 線盤 相等 | ||
本實用新型屬于家用電器技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種可改變加熱面積的單層電磁線盤及采用其的電磁爐，包括控制裝置、盤架、繞設(shè)在所述盤架上的第一線圈盤、第二線圈盤；所述控制裝置分別與所述第一線圈盤、第二線圈盤連接；所述控制裝置能夠控制所述第一線圈盤或第二線圈盤工作；所述第一線圈盤的電感量與所述第二線圈盤的電感量的差量介于其中較小電感量線圈盤電感量的0％?12％之間；所述第一線圈盤為小面積加熱盤，所述第二線圈盤為大面積加熱盤；所述兩個線圈盤位于同一層面。本實用新型提供的可改變加熱面積的單層電磁線盤具有線盤繞制簡單，加熱均勻性好，且兩個線盤感量相等或相近，直接切換控制線盤，諧振電路和軟件程序不需要做額外處理等有益效果。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型屬于家用電器技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種可改變加熱面積的單層電磁線盤及采用其的電磁爐。
背景技術(shù)
傳統(tǒng)的改變加熱面積的控制方法，是小面積加熱時，切換到內(nèi)環(huán)A引線與內(nèi)環(huán)B引線，只用內(nèi)環(huán)線圈加熱；大面積加熱時，把內(nèi)環(huán)A引線與外環(huán)A引線相連，內(nèi)環(huán)B引線與外環(huán)B引線相連，內(nèi)/外環(huán)線圈并聯(lián)在一起加熱；或者內(nèi)環(huán)B引線與外環(huán)A引線相連,內(nèi)/外環(huán)線圈串聯(lián)在一起加熱；缺點：
1、大面積雙環(huán)加熱時，內(nèi)環(huán)與外環(huán)之間有嚴重加熱隔離帶，加熱效果差；
2、線圈盤繞制復雜，生產(chǎn)工藝復雜，線圈盤參數(shù)管控困難，加熱效果一致性差；
3、整體加熱均勻性差，無法滿足使用效果；
4、兩個線盤感量經(jīng)過串/并后，感量大幅變化，引起諧振電路參數(shù)變化，需要做額外的補償和處理，成本增加，控制電路和程序都很復雜，質(zhì)量難以控制。
因此，傳統(tǒng)的電路結(jié)構(gòu)在工作中兩個線圈盤在串聯(lián)或者并聯(lián)時通電會導致兩個線圈盤的電感量相互影響和電感量產(chǎn)生變化，因此，會進而導致電路中的諧振電路參數(shù)發(fā)生劇烈變化，使得電磁爐的工作產(chǎn)生異常問題，而要解決所述問題需要該電磁爐中的控制電路系統(tǒng)改造升級，導致成本大幅度增。
實用新型內(nèi)容
(一)要解決的技術(shù)問題
針對現(xiàn)有存在的技術(shù)問題，本實用新型提供一種可改變加熱面積的單層電磁線盤及采用其的電磁爐解決了現(xiàn)有技術(shù)中線圈盤繞設(shè)復雜，參數(shù)管控空難、需要加熱隔離帶、加熱均勻性差、兩個線盤感量經(jīng)過串/并后，感量大幅變化，引起諧振電路參數(shù)變化，需要做額外的補償和處理，成本增加，控制電路和程序都很復雜，質(zhì)量難以控制等問題。
(二)技術(shù)方案
為了達到上述目的，本實用新型采用的主要技術(shù)方案包括：
一種可改變加熱面積的單層電磁線盤，包括控制裝置、盤架、繞設(shè)在所述盤架上同心設(shè)置的第一線圈盤、第二線圈盤；
所述控制裝置分別與所述第一線圈盤、第二線圈盤連接；
所述控制裝置能夠控制所述第一線圈盤或第二線圈盤工作；
所述第一線圈盤與所述第二線圈盤分別繞設(shè)在所述盤架上；
所述第一線圈盤的電感量與所述第二線圈盤的電感量的差量介于其中較小電感量線圈盤電感量的0％-12％之間；
所述第一線圈盤覆蓋小面積圓形加熱區(qū)域，所述第二線圈盤覆蓋大面積圓形加熱區(qū)域；
優(yōu)選地，所述第一線圈盤和所述第二線圈盤在所述盤架上的分布結(jié)構(gòu)為：
所述第一線圈盤包括第一首端和第一尾端；
所述第二線圈盤包括第二首端和第二尾端；
所述第一線圈盤的第一首端和所述第二線圈盤的第二首端位于所述盤架的中心位置，且以所述中心位置為圓心，所述第一線圈盤和所述第二線圈盤在所述盤架上呈并列且螺旋形繞設(shè)；
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