[實用新型]一種靶材冷卻裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201721848656.4 | 申請日: | 2017-12-26 |
| 公開(公告)號: | CN208104526U | 公開(公告)日: | 2018-11-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 嚴佐毅;劉文卿;張龍;張麗 | 申請(專利權(quán))人: | 安徽金美新材料科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/32 | 分類號: | C23C14/32 |
| 代理公司: | 北京挺立專利事務(wù)所(普通合伙) 11265 | 代理人: | 李鑫 |
| 地址: | 安徽省淮南市壽縣新橋國際產(chǎn)業(yè)園新*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 冷卻腔 靶座 靶材 冷卻 靶材冷卻 冷卻背板 冷卻介質(zhì)出口 冷卻介質(zhì)流道 冷卻介質(zhì)入口 本實用新型 傳熱 磁控濺射 間隔設(shè)置 冷卻介質(zhì) 流動過程 強化冷卻 曲折 導(dǎo)流板 底座 換熱 上壁 連通 交錯 | ||
1.一種靶材冷卻裝置,包括靶材和冷卻靶座,其特征在于,所述冷卻靶座包括冷卻腔,所述冷卻腔上壁為冷卻背板用于放置所述靶材,所述冷卻腔兩端分別設(shè)置有冷卻介質(zhì)入口和冷卻介質(zhì)出口,所述冷卻腔內(nèi)上下壁設(shè)有若干彼此交錯且間隔設(shè)置的導(dǎo)流板,使所述冷卻腔內(nèi)部空間形成曲折連通的冷卻介質(zhì)流道;所述靶材和冷卻背板采用熱粘接以使兩者充分接觸。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種靶材冷卻裝置,其特征在于,所述冷卻背板為齒狀,所述靶材底部形狀對應(yīng)冷卻背板以使所述靶材與所述冷卻背板充分嚙合。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種靶材冷卻裝置,其特征在于,所述齒狀冷卻背板兩端的齒形高度大于所述齒狀冷卻背板中部的齒形高度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種靶材冷卻裝置,其特征在于,所述冷卻腔中間設(shè)有一隔離板將所述冷卻腔分隔為兩個對稱設(shè)置的隔離冷卻腔,每一所述隔離冷卻腔下部靠近所述隔離板均設(shè)置有開口,其中靠近所述冷卻介質(zhì)入口的開口對應(yīng)為中部冷卻介質(zhì)出口,靠近所述冷卻介質(zhì)出口的開口對應(yīng)為中部冷卻介質(zhì)入口。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種靶材冷卻裝置,其特征在于,所述冷卻靶座采用熱導(dǎo)率高于10W/(m.k)的導(dǎo)熱材料制成。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種靶材冷卻裝置,其特征在于,所述導(dǎo)熱材料包括石墨烯或者合金材料。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種靶材冷卻裝置,其特征在于,冷卻介質(zhì)為熱導(dǎo)率高于0.5W/(m.k)的導(dǎo)熱流體。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種靶材冷卻裝置,其特征在于,所述導(dǎo)熱流體為納米流體。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-7任一所述的一種靶材冷卻裝置,其特征在于,所述靶材和冷卻背板連接處設(shè)置有填充物,所述填充物為純銦、銦合金、錫銅合金、鋅錫合金或者錫銀銅合金。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





