[實用新型]輻射檢查系統

有效

• 申請號: 201721843454.0
• 申請日: 2017-12-26
• 公開（公告）號: CN207816856U
• 公開（公告）日: 2018-09-04
• 發明（設計）人: 楊祎罡;王東宇;于昊;宋全偉;李薦民;王偉珍;李玉蘭;宗春光;張勤儉;曾鳴;陳志強;李元景;張麗
• 申請（專利權）人: 清華大學;同方威視技術股份有限公司
• 主分類號: G01N23/00
• 分類號: G01N23/00;G01V5/00
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 艾春慧

1.一種輻射檢查系統(100)，包括用于發射初始射束(N1)的輻射源和用于將所述初始射束(N1)調制為掃描射束的射束調制裝置，其特征在于，所述射束調制裝置包括設置于所述輻射源的射束出射側的第一準直結構(114)和設置于所述第一準直結構(114)的射束出射側的第二準直結構(130)，所述第一準直結構(114)包括第一準直口(1141)，所述第二準直結構(130)包括第二準直口(131)，所述第二準直結構(130)與所述第一準直結構(114)相對可動地設置以改變所述第一準直口(1141)和所述第二準直口(131)的相對位置，使所述射束調制裝置在第一工作狀態和第二工作狀態之間切換，其中，在所述第一工作狀態，所述射束調制裝置將所述初始射束(N1)調制為扇形束(N2)，在所述第二工作狀態，所述射束調制裝置將所述初始射束(N1)調制為位置可變的筆形束(N3)。

2.根據權利要求1所述的輻射檢查系統(100)，其特征在于，在所述第二工作狀態，所述第二準直結構(130)與所述第一準直結構(114)可相對平移和/或可相對轉動以改變所述第二準直口(131)與所述第一準直口(1141)的垂直于所述初始射束(N1)的出射方向的交叉位置，從而改變所述筆形束(N3)的位置。

3.根據權利要求1所述的輻射檢查系統(100)，其特征在于，所述第一準直結構(114)包括第一準直板；所述第二準直結構(130)包括第二準直板。

4.根據權利要求3所述的輻射檢查系統(100)，其特征在于，所述第一準直板為第一準直平板，所述第二準直板為第二準直平板；或者，所述第一準直板為第一準直曲面板，所述第二準直板為第二準直曲面板。

5.根據權利要求3所述的輻射檢查系統(100)，其特征在于，所述第一準直板平行于所述第二準直板。

6.根據權利要求1所述的輻射檢查系統(100)，其特征在于，所述第一準直口(1141)為第一準直縫；所述第二準直口(131)為第二準直縫。

7.根據權利要求1所述的輻射檢查系統(100)，其特征在于，所述第一準直縫和所述第二準直縫中至少一個為直線型準直縫。

8.根據權利要求7所述的輻射檢查系統(100)，其特征在于，所述第二準直縫相對于所述第一準直縫傾斜設置或垂直設置。

9.根據權利要求1所述的輻射檢查系統(100)，其特征在于，所述第一準直結構(114)靜止，所述第二準直結構(130)可動地設置；或者，所述第一準直結構可動地設置，所述第二準直結構靜止；或者，所述第一準直結構和所述第二準直結構均可動地設置。

10.根據權利要求1至9中任一項所述的輻射檢查系統(100)，其特征在于，所述輻射源包括中子源(111)。

11.根據權利要求10所述的輻射檢查系統(100)，其特征在于，所述中子源(111)包括光中子源。

12.根據權利要求10所述的輻射檢查系統(100)，其特征在于，所述輻射檢查系統(100)還包括中子調制罩，所述中子調制罩設置于所述中子源(111)外周，以對所述中子源(111)產生的中子進行調制。

13.根據權利要求12所述的輻射檢查系統(100)，其特征在于，所述中子調制罩包括慢化層(112)，所述慢化層(112)設置于所述中子源(111)外周以慢化所述中子源(111)產生的中子。

14.根據權利要求13所述的輻射檢查系統(100)，其特征在于，所述中子調制罩還包括屏蔽層(113)，所述屏蔽層(113)設置于所述慢化層(112)的外周，包括屏蔽慢化后的中子的屏蔽部和設置于所述射束出射側的用于出射所述初始射束(N1)的中子出射口。