[實用新型]一種多通道集成濾光片的光隔離結構有效
| 申請號： | 201721838903.2 | 申請日： | 2017-12-26 |
| 公開（公告）號： | CN207636809U | 公開（公告）日： | 2018-07-20 |
| 發明（設計）人： | 周東平 | 申請（專利權）人： | 蘇州晶鼎鑫光電科技有限公司 |
| 主分類號： | G02B6/12 | 分類號： | G02B6/12 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 215000 江蘇省蘇州市工業園區婁*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 集成濾光片 多通道 黑鉻 金屬膜層 消光層 二氧化硅膜層 本實用新型 光隔離結構 氧化鉻膜層 基片表面 光學透過性能 金屬膜層表面 真空鍍膜工藝 工作性能 光線通過 光學薄膜 空白區域 有效實現 反射光 氧化物 隔離 | ||
【權利要求書】：
1.一種多通道集成濾光片的光隔離結構，其特征在于，包括設置在基片表面上的黑鉻金屬膜層，以阻止光線通過，所述黑鉻金屬膜層分布于多通道集成濾光片通道間的空白區域；
還包括消光層，所述消光層由第一氧化鉻膜層、第一二氧化硅膜層、第二氧化鉻膜層、第二二氧化硅膜層組成，所述第一氧化鉻膜層設置在所述黑鉻金屬膜層上，所述第一二氧化硅膜層設置在所述第一氧化鉻膜層上，所述第二氧化鉻膜層設置在所述第一二氧化硅膜層上，所述第二二氧化硅膜層設置在所述第二氧化鉻膜層上。
2.根據權利要求1所述的一種多通道集成濾光片的光隔離結構，其特征在于，所述黑鉻金屬膜層的厚度為200-500納米，所述第一氧化鉻膜層的厚度為45-50納米，所述第一二氧化硅膜層的厚度為200-220納米，所述第二氧化鉻膜層的厚度為120-140納米，所述第二二氧化硅膜層的厚度為85-95納米。
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