[實用新型]一種用于熔鹽儲罐的熔鹽注入均流系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201721832378.3 | 申請日： | 2017-12-25 |
| 公開（公告）號： | CN207963590U | 公開（公告）日： | 2018-10-12 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 向浩;劉子豪;李社鋒;郭華軍;陳堃;邵雁;王文坦;覃慧 | 申請（專利權(quán)）人： | 武漢都市環(huán)保工程技術(shù)股份有限公司 |
| 主分類號： | F28D20/00 | 分類號： | F28D20/00;F24S60/30 |
| 代理公司： | 北京匯澤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11228 | 代理人： | 張濤 |
| 地址： | 430205 湖北省武漢市*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 熔鹽 儲罐 導(dǎo)管 均流系統(tǒng) 開孔 本實用新型 分布均勻度 儲罐頂部 溫度分布 逐漸增大 凝固 堵塞 均衡 延伸 | ||
1.一種用于熔鹽儲罐的熔鹽注入均流系統(tǒng)，包括儲罐(1)，其特征在于：還包括由所述儲罐(1)頂部延伸至底部的熔鹽導(dǎo)管(2)以及設(shè)置于所述儲罐(1)底部且呈中空狀的熔鹽分布環(huán)(3),所述熔鹽分布環(huán)(3)上設(shè)置有與所述熔鹽導(dǎo)管(2)連接的熔鹽入口以及沿所述熔鹽分布環(huán)(3)的周向分布的若干熔鹽出口，沿遠離所述熔鹽入口的方向前一所述熔鹽出口的口徑小于后一所述熔鹽出口的口徑。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于熔鹽儲罐的熔鹽注入均流系統(tǒng)，其特征在于：所述熔鹽分布環(huán)(3)呈圓環(huán)狀，與所述熔鹽入口位于同一直徑上的所述熔鹽出口的口徑最大。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于熔鹽儲罐的熔鹽注入均流系統(tǒng)，其特征在于：所述熔鹽分布環(huán)(3)的直徑為儲罐(1)直徑的2/3。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于熔鹽儲罐的熔鹽注入均流系統(tǒng)，其特征在于：沿周長方向均勻分布孔的個數(shù)為40-80個。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于熔鹽儲罐的熔鹽注入均流系統(tǒng)，其特征在于：熔鹽分布環(huán)(3)管徑與熔鹽導(dǎo)管(2)的管徑相同。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于熔鹽儲罐的熔鹽注入均流系統(tǒng)，其特征在于：所述熔鹽導(dǎo)管(2)沿豎直向下的方向延伸。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項所述的一種用于熔鹽儲罐的熔鹽注入均流系統(tǒng)，其特征在于：最大口徑的所述熔鹽出口的口徑與所述熔鹽入口的口徑之比為1.5-4。
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