[實用新型]一種化學機械拋光墊的修整設備的結構

有效

• 申請號: 201721822479.2
• 申請日: 2017-12-24
• 公開（公告）號: CN207606691U
• 公開（公告）日: 2018-07-13
• 發明（設計）人: 左洪波;楊鑫宏;李巖;李鐵;王芳
• 申請（專利權）人: 哈爾濱秋冠光電科技有限公司
• 主分類號: B24B53/017
• 分類號: B24B53/017;B24B53/12;B24B57/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種化學機械拋光墊的修整設備的結構，其特征在于它包括拋光墊、機械傳動機構、拋光頭、修整盤支架、拋光液噴頭、拋光液罐和電源，修整盤安裝在修整盤支架上，修整盤支架包括懸臂、連桿、修整盤聯接器，修整盤聯接器通過連桿連接懸臂，拋光頭連接機械傳動機構，拋光頭、拋光液噴頭和修整盤聯接器設置在拋光墊上方，修整盤的中心與拋光頭的中心在同一個圓周上，圓周的圓心與拋光墊的圓心重合，拋光頭帶動拋光墊同時運動，拋光液噴頭通過電動閥門連接拋光液罐，修整盤包括底座和基柱，底座帶有與基柱直徑相同的基柱通孔，基柱旋入底座的帶螺紋的基柱通孔內，電動閥門、機械傳動機構連接電源。

2.根據權利要求1所述的一種化學機械拋光墊的修整設備的結構，其特征在于所述的修整盤的基柱的側面設置有螺紋，上端面設置有鎳層，鎳層上有磨粒，下端面設置有十字花；基柱上設置有密度和直徑大小都相同的金剛石層，金剛石層的最高點在同一水平工作面上；基柱的直徑1 ~ 3 cm，螺紋的間距是0.4 mm，鎳層厚度是0.5~1 mm。

3.根據權利要求2所述的一種化學機械拋光墊的修整設備的結構，其特征在于所述的底座上設置有四個研磨單元，每一個研磨單元設置有相同的基柱通孔，每個基柱通孔的直徑與基柱相同。

4.根據權利要求3所述的一種化學機械拋光墊的修整設備的結構，其特征在于所述的水平測定盤的氣泡的直徑是2 cm，水平測定盤的直徑最小可以覆蓋整個修整盤的基柱整體。