[實(shí)用新型]一種宇航級波導(dǎo)隔離器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201721816644.3 | 申請日: | 2017-12-22 |
| 公開(公告)號: | CN207800858U | 公開(公告)日: | 2018-08-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李壽鵬 | 申請(專利權(quán))人: | 西安富士達(dá)微波技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | H01P1/36 | 分類號: | H01P1/36 |
| 代理公司: | 西安恒泰知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 61216 | 代理人: | 李鄭建 |
| 地址: | 710075 陜西省*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 鐵氧體 隔離器 腔體 本實(shí)用新型 絕緣支撐體 波導(dǎo)隔離器 宇航 波導(dǎo)負(fù)載 定位精準(zhǔn) 功率試驗(yàn) 老化試驗(yàn) 一致性好 有效解決 有效抑制 定位槽 高功率 上腔壁 微放電 下腔壁 加工 | ||
1.一種宇航級波導(dǎo)隔離器,包括波導(dǎo)負(fù)載(1)、隔離器腔體(2)以及設(shè)置在隔離器腔體(2)上腔壁和下腔壁上的鐵氧體(3),其特征在于:還包括絕緣支撐體(4),所述的絕緣支撐體(4)設(shè)置在兩個所述的鐵氧體(3)之間。
2.如權(quán)利要求1所述的宇航級波導(dǎo)隔離器,其特征在于,所述的絕緣支撐體(4)的兩端設(shè)有凹槽(4-1),兩端的凹槽(4-1)相互不貫通,兩個鐵氧體(3)配合安裝在凹槽(4-1)中。
3.如權(quán)利要求2所述的宇航級波導(dǎo)隔離器,其特征在于,所述的凹槽(4-1)側(cè)壁上設(shè)有開口槽(4-2)。
4.如權(quán)利要求2所述的宇航級波導(dǎo)隔離器,其特征在于,所述的絕緣支撐體(4)為圓柱形,所述的凹槽(4-1)也為圓柱形。
5.如權(quán)利要求1所述的宇航級波導(dǎo)隔離器,其特征在于,所述的隔離器腔體內(nèi)壁上設(shè)有定位槽(2-1),所述的鐵氧體(3)和絕緣支撐體(4)的端部設(shè)于定位槽(2-1)中。
6.如權(quán)利要求5所述的宇航級波導(dǎo)隔離器,其特征在于,所述的定位槽(2-1)的直徑比絕緣支撐體(4)的外徑大0.05mm~0.1mm。
7.如權(quán)利要求1所述的宇航級波導(dǎo)隔離器,其特征在于,所述的鐵氧體(3)的厚度大于凹槽(4-1)的高度。
8.如權(quán)利要求1所述的宇航級波導(dǎo)隔離器,其特征在于,所述的波導(dǎo)負(fù)載(1)包括底板(1-1)、蓋板(1-2)和吸收體(1-3),所述的吸收體(1-3)夾設(shè)在底板(1-1)和蓋板(1-2)之間,所述的吸收體(1-3)與蓋板(1-2)之間形成截面為三角形的空腔(1-4)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于西安富士達(dá)微波技術(shù)有限公司,未經(jīng)西安富士達(dá)微波技術(shù)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201721816644.3/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種射頻同軸匹配負(fù)載
- 下一篇:一種微帶環(huán)行器





