[實(shí)用新型]一種包殼管內(nèi)壓爆破試驗(yàn)裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201721801671.3 | 申請(qǐng)日: | 2017-12-20 |
| 公開(公告)號(hào): | CN207610937U | 公開(公告)日: | 2018-07-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉洋;王占偉;黃恒;龔星;嚴(yán)俊;劉彤;任啟森;李銳;李雷;楊英;薛佳祥 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 廣東核電合營(yíng)有限公司;中廣核研究院有限公司;中國(guó)廣核集團(tuán)有限公司;中國(guó)廣核電力股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N3/18 | 分類號(hào): | G01N3/18 |
| 代理公司: | 深圳市瑞方達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44314 | 代理人: | 林儉良;王少虹 |
| 地址: | 518026 廣東省深圳市福田*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 真空加熱裝置 包殼管 壓力介質(zhì) 防護(hù)組件 內(nèi)壓爆破試驗(yàn) 本實(shí)用新型 釋放裝置 連通 介質(zhì)輸送 伸出設(shè)置 輸送管道 重要部件 再利用 中套 爆破 外圍 回收 | ||
本實(shí)用新型涉及包殼管內(nèi)壓爆破試驗(yàn)裝置,包括真空加熱裝置、設(shè)置在所述真空加熱裝置中的包殼管、設(shè)置在所述真空加熱裝置中套設(shè)在所述包殼管外圍的防護(hù)組件、設(shè)置在所述防護(hù)組件的一端與所述包殼管連通將壓力介質(zhì)輸送至所述包殼管的壓力介質(zhì)輸送管道、設(shè)置在所述防護(hù)組件的另一端與所述防護(hù)組件連通的壓力介質(zhì)釋放裝置;所述壓力介質(zhì)釋放裝置從所述真空加熱裝置伸出設(shè)置,以將防護(hù)組件中的介質(zhì)輸送至所述真空加熱裝置外。本實(shí)用新型的包殼管內(nèi)壓爆破試驗(yàn)裝置能夠?qū)毫橘|(zhì)輸送至真空加熱裝置外,避免爆破后的介質(zhì)損壞真空加熱裝置中的重要部件,利于壓力介質(zhì)的回收和再利用。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及試驗(yàn)裝置,更具體地說(shuō),涉及一種包殼管內(nèi)壓爆破試驗(yàn)裝置。
背景技術(shù)
傳統(tǒng)泄壓裝置通常采用泄壓閥,在系統(tǒng)內(nèi)壓力大于外界環(huán)境壓力時(shí)能滿足系統(tǒng)密封要求,但在高真空環(huán)境中泄漏率很高,不能滿足本內(nèi)壓爆破試驗(yàn)機(jī)高真空度密封要求。傳統(tǒng)內(nèi)壓爆破試驗(yàn)機(jī)爆破后壓力介質(zhì)直接釋放,容易損壞加熱爐內(nèi)重要部件還有污染環(huán)境,另外,其為單一壓力介質(zhì)釋放系統(tǒng),無(wú)法實(shí)現(xiàn)多壓力介質(zhì)的釋放。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題在于,提供一種能夠解決不能滿足試驗(yàn)機(jī)高真空度密封要求、壓力介質(zhì)釋放容易損壞重要部件還有污染環(huán)境以及無(wú)法多壓力介質(zhì)釋放等弊端的包殼管內(nèi)壓爆破試驗(yàn)裝置。
本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:構(gòu)造一種包殼管內(nèi)壓爆破試驗(yàn)裝置,包括真空加熱裝置、設(shè)置在所述真空加熱裝置中的包殼管、設(shè)置在所述真空加熱裝置中套設(shè)在所述包殼管外圍的防護(hù)組件、設(shè)置在所述防護(hù)組件的一端與所述包殼管連通將壓力介質(zhì)輸送至所述包殼管的壓力介質(zhì)輸送管道、設(shè)置在所述防護(hù)組件的另一端與所述防護(hù)組件連通的壓力介質(zhì)釋放裝置;
所述壓力介質(zhì)釋放裝置從所述真空加熱裝置伸出設(shè)置,以將防護(hù)組件中的介質(zhì)輸送至所述真空加熱裝置外。
優(yōu)選地,所述壓力釋放裝置包括與所述防護(hù)組件連接且從所述真空加熱裝置伸出的壓力介質(zhì)釋放管道以及設(shè)置在所述壓力介質(zhì)釋放管道上的至少一個(gè)壓力介質(zhì)釋放閥。
優(yōu)選地,所述至少一個(gè)壓力介質(zhì)釋放閥包括與所述壓力介質(zhì)釋放管道連通且可自力復(fù)位高真空密封的氣態(tài)壓力介質(zhì)釋放閥以及與所述壓力介質(zhì)釋放管道連通的液態(tài)壓力釋放閥。
優(yōu)選地,所述防護(hù)組件包括套設(shè)在所述包殼管外圍的防護(hù)套筒、以及設(shè)置在所述防護(hù)套筒兩端的第一密封堵頭和第二密封堵頭;
所述防護(hù)套筒與所述壓力介質(zhì)釋放管道連接;
所述壓力介質(zhì)輸送管道通過(guò)設(shè)置密封卡環(huán)與所述第一密封堵頭連接。
優(yōu)選地,所述真空加熱裝置包括加熱爐、設(shè)置在所述加熱爐上的真空密封組件、設(shè)置在所述加熱爐中的陶瓷基座、以及設(shè)置在所述陶瓷基座上的至少一段加熱體;
所述包殼管設(shè)置在所述加熱體中;
所述防護(hù)套筒套設(shè)在所述包殼管外圍且設(shè)置在所述加熱體中;
所述壓力釋放管道伸出所述陶瓷基座設(shè)置。
優(yōu)選地,所述加熱爐上設(shè)有供所述壓力介質(zhì)輸送管道伸入的第一開口以及與所述第一開口相對(duì)設(shè)置供所述壓力介質(zhì)釋放管道伸出的第二開口;
所述真空密封組件設(shè)置在所述第一開口處;
所述壓力介質(zhì)釋放管道直徑與所述第二開口的口徑基本相等。
優(yōu)選地,所述真空密封組件包括設(shè)置在所述第一開口上的真空法蘭、以及固定所述真空法蘭的真空密封快夾;
所述壓力介質(zhì)輸送管道與所述密封卡環(huán)連接且通過(guò)所述真空密封快夾固定設(shè)置。
優(yōu)選地,所述加熱體為鉬絲;
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