[實用新型]一種雙面拋光機

有效

• 申請號: 201721795862.3
• 申請日: 2017-12-21
• 公開（公告）號: CN209793317U
• 公開（公告）日: 2019-12-17
• 發明（設計）人: 胡林寶
• 申請（專利權）人: 浙江游星電子科技有限公司
• 主分類號: B24B7/17
• 分類號: B24B7/17
• 代理公司: 11548 北京華仲龍騰專利代理事務所(普通合伙)
• 代理人: 李靜

本實用新型公開了一種雙面拋光機，包括底座，底座上端左側安裝有導向套，導向套內部安裝有絲桿，絲桿上端中部設有左旋螺紋，左旋螺紋外側安裝有上滑塊，上滑塊右端連接有上移動桿，上移動桿下端右側安裝有上拋光電機，絲桿下端外側設有右旋螺紋，右旋螺紋外側安裝有下滑塊，下滑塊右端連接有下移動桿，下移動桿上端右側安裝有下拋光電機，底座上端右側安裝有支撐架，支撐架與導向套中部之間安裝有夾持裝置，夾持裝置之間放置有硅片。本實用新型，通過設有的絲桿和兩個滑塊之間的相互配合，實現著對兩個移動桿的相反方向的運動，從而實現著對硅片上下兩面的同時打磨，既提高著拋光效率，同時也降低著生產成本，實用性強。

技術領域

本實用新型涉及硅片加工技術領域，具體是一種雙面拋光機。

背景技術

硅片，是制作集成電路的重要材料，通過對硅片進行光刻、離子注入等手段，可以制成各種半導體器件。用硅片制成的芯片有著驚人的運算能力。科學技術的發展不斷推動著半導體的發展。自動化和計算機等技術發展，使硅片（集成電路）這種高技術產品的造價已降到十分低廉的程度。這使得硅片已廣泛應用于航空航天、工業、農業和國防，甚至悄悄進入每一個家庭。

在硅片的加工過程中，其中有個最主要的加工工藝就是對硅片進行表面的拋光，拋光是硅片的最終加工工序，要求拋光表面具有晶格完整性、高的平面度及潔凈性，使用械化學拋光法可以獲得無加工變質層的表面，然而目前企業在對硅片進行拋光加工時所采用的拋光機不具備雙面拋光功能，對一塊硅片拋光時需要進行兩次，這就導致拋光效率降低，降低整體生產進度，存在不足。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種雙面拋光機，以解決上述背景技術中提出的問題。

為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案：

一種雙面拋光機，包括底座，所述底座上端左側安裝有導向套，導向套內部安裝有絲桿，絲桿上端中部設有左旋螺紋，左旋螺紋外側安裝有上滑塊，上滑塊右端連接有上移動桿，上移動桿下端右側安裝有上拋光電機，所述絲桿下端外側設有右旋螺紋，右旋螺紋外側安裝有下滑塊，下滑塊右端連接有下移動桿，下移動桿上端右側安裝有下拋光電機，所述底座上端右側安裝有支撐架，所述支撐架與導向套中部之間安裝有夾持裝置，夾持裝置之間放置有硅片。

作為本實用新型進一步的方案：所述導向套與支撐架上端之間安裝有橫架。

作為本實用新型進一步的方案：所述絲桿上端安裝有驅動電機，驅動電機固定于導向套上端中部，所述驅動電機為雙轉向步進電機。

作為本實用新型進一步的方案：所述上拋光電機下端安裝有上拋光輪，所述下拋光電機上端安裝有下拋光輪。

作為本實用新型進一步的方案：所述上拋光電機和下拋光電機分別電性連接有控制面板，所述控制面板安裝于支撐架右端。

作為本實用新型再進一步的方案：所述導向套右端中部設有與上移動桿和下移動桿相互配合的移動槽。

與現有技術相比，本實用新型的有益效果是：

所述一種雙面拋光機，結構合理，設計新穎，通過設有的絲桿和兩個滑塊之間的相互配合，實現著對兩個移動桿的相反方向的運動，從而實現著對硅片上下兩面的同時打磨，既提高著拋光效率，同時也降低著生產成本，實用性強。

附圖說明

圖1為一種雙面拋光機的結構示意圖。

圖2為一種雙面拋光機中導向套的右側結構示意圖。

圖3為一種雙面拋光機中絲桿的結構示意圖。

具體實施方式

需要說明的是，在不沖突的情況下，本實用新型中的實施例及實施例中的特征可以相互組合。