[實用新型]一種基片曝光吸盤

有效

• 申請號: 201721777171.0
• 申請日: 2017-12-19
• 公開（公告）號: CN207541410U
• 公開（公告）日: 2018-06-26
• 發明（設計）人: 梁萬國;李廣偉;陳懷熹;繆龍;馮新凱;鄒小林
• 申請（專利權）人: 福建中科晶創光電科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型提供一種基片曝光吸盤；包括吸盤主體，還包括載片、負壓抽嘴、壓力表和壓力調節閥；所述吸盤主體的內腔內具有一圈凸臺；所述凸臺上嵌有一圈密封圈；所述載片通過所述密封圈可拆卸安裝在所述凸臺上，其中所述載片的外表面上設有一個卡固組件；所述負壓抽嘴、壓力表和壓力調節閥均設于所述吸盤主體上，且與所述吸盤主體的內腔連通。在曝光過程中，使用本實用新型代替常規的夾持夾具，本實用新型吸附壓力穩定、不易脫片、基片變形量小，特別是對于厚度較薄的基片，對保證基片的形變量更有效。

技術領域

本實用新型涉及基片夾具技術領域，具體涉及一種基片曝光吸盤。

背景技術

在光柵全息技術領域，光刻膠常用于抗刻蝕阻層。其中光刻膠曝光的方式有光刻機曝光，雙光束干涉曝光等。對于高線密度光柵來說，常用的曝光方式為雙光束干涉曝光。在雙光束干涉曝光過程中，放置于平臺上的激光器發出一定波長的單束激光，單束激光經過分光鏡、反射鏡、顯微物鏡、濾波小孔、準直鏡等光學元器件之后，形成雙光束準直光，兩束準直光相互干涉，就可以在光刻膠層上形成曝光區與非曝光區，進而通過顯影技術，將曝光區或非曝光區內的光刻膠去掉，形成想要的光刻膠抗刻蝕圖案層。

在該過程中，基片為豎直放置。此過程中，基片的形變及穩定性對曝光質量的影響非常大。常規的基片放置方式為夾持放置，即通過一個夾具將基片固定，但由于每次夾持的力度不同，會導致基片發生形變或脫片，特別是對于厚度較薄的基片，在夾持過程中，更容易發生形變，甚至會出現基片破裂的現象，從而影響了曝光質量。

實用新型內容

有鑒于此，本實用新型目的是提供一種基片曝光吸盤。

為了解決上述技術問題，本實用新型的技術方案是：

一種基片曝光吸盤；包括吸盤主體，還包括載片、負壓抽嘴、壓力表和壓力調節閥；所述吸盤主體的內腔內具有一圈凸臺；所述凸臺上嵌有一圈密封圈；所述載片通過所述密封圈可拆卸安裝在所述凸臺上，其中所述載片的的外表面上設有一個卡固組件；所述負壓抽嘴、壓力表和壓力調節閥均設于所述吸盤主體上，且與所述吸盤主體的內腔連通。

優選的，還包括連接桿和五維調整架，所述連接桿上端固定連接在所述吸盤主體上，下端可拆卸安裝在所述五維調整架上。

優選的，所述卡固組件包括彈力壓片和定位卡槽；所述定位卡槽水平固定連接在所述載片的外表面上，其中所述定位卡槽的截面呈L形；所述彈力壓片固定連接在所述載片的外表面上，且位于所述定位卡槽的正上方。

優選的，所述彈力壓片數量不少于兩個，且所述彈力壓片均設于同一水平線上。

較之現有技術，本實用新型的優點在于：

在基片曝光過程中，使用本實用新型代替常規的夾持夾具，吸附壓力穩定、不易脫片、基片變形量小，特別是對于厚度較薄的基片，使用本實用新型對保證基片的形變量更有效。而且在抽真空過程中，觀察壓力表的示數，同時通過調整壓力調節閥調節吸盤主體對載片的吸附力大小。

附圖說明

圖1為本實用新型的整體結構示意圖；

圖2為本實用新型的吸盤主體的結構示意圖；

圖3為載片的截面圖；

圖4為載片的主視圖。

附圖標記：1、吸盤主體；2、凸臺；3、載片；4、卡固組件；5、密封圈；6、負壓抽嘴；7、壓力表；8、壓力調節閥；9、連接桿；10、五維調整架；11、基片；401、定位卡槽；402、彈力壓片。

具體實施方式

以下結合附圖，對本實用新型的具體實施方式作進一步詳述，以使本實用新型技術方案更易于理解和掌握。

實施例：