[實(shí)用新型]帶絲網(wǎng)效果的可呈現(xiàn)預(yù)設(shè)光澤蓋板及電子設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201721774800.4
• 申請(qǐng)日: 2017-12-14
• 公開（公告）號(hào): CN208485810U
• 公開（公告）日: 2019-02-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 裴立志;李素云;周偉杰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 信利光電股份有限公司
• 主分類號(hào): C04B41/81
• 分類號(hào): C04B41/81;C04B41/89;C03C17/34
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 羅滿

1.一種帶絲網(wǎng)效果的可呈現(xiàn)預(yù)設(shè)光澤蓋板，其特征在于，包括基板、調(diào)色層和調(diào)色膜；

所述調(diào)色層覆蓋所述基板，用于調(diào)節(jié)入射光入射到所述蓋板后各波段光的透射率和反射率，使所述蓋板呈現(xiàn)出預(yù)設(shè)光澤；

所述調(diào)色膜為線條狀，分布所述基板整個(gè)平面并且在平面上形成網(wǎng)狀，所述調(diào)色膜呈現(xiàn)出預(yù)設(shè)色澤。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶絲網(wǎng)效果的可呈現(xiàn)預(yù)設(shè)光澤蓋板，其特征在于，所述調(diào)色層形成在所述基板朝向觀察一側(cè)表面上，所述調(diào)色膜形成在所述基板背向觀察一側(cè)表面上。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶絲網(wǎng)效果的可呈現(xiàn)預(yù)設(shè)光澤蓋板，其特征在于，所述調(diào)色膜形成在所述基板背向觀察一側(cè)表面上，所述調(diào)色層形成在所述基板背向觀察一側(cè)表面上未覆蓋所述調(diào)色膜的區(qū)域。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的帶絲網(wǎng)效果的可呈現(xiàn)預(yù)設(shè)光澤蓋板，其特征在于，所述調(diào)色膜在所述基板平面上形成圓形網(wǎng)孔或者多邊形網(wǎng)孔。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶絲網(wǎng)效果的可呈現(xiàn)預(yù)設(shè)光澤蓋板，其特征在于，所述調(diào)色層由至少兩種光學(xué)介質(zhì)材料膜層層疊形成，所述至少兩種光學(xué)介質(zhì)材料膜層具有不同的折射率；

所述調(diào)色膜由至少兩種光學(xué)介質(zhì)材料膜層層疊形成，所述至少兩種光學(xué)介質(zhì)材料膜層具有不同的折射率。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的帶絲網(wǎng)效果的可呈現(xiàn)預(yù)設(shè)光澤蓋板，其特征在于，所述光學(xué)介質(zhì)材料膜層包括氧化硅膜層、氧化鈦膜層或者氮化硅膜層。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的帶絲網(wǎng)效果的可呈現(xiàn)預(yù)設(shè)光澤蓋板，其特征在于，還包括：設(shè)置在所述蓋板朝向觀察一側(cè)表面上的防指紋層，和/或設(shè)置在所述蓋板背向觀察一側(cè)表面上的油墨層。

8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的帶絲網(wǎng)效果的可呈現(xiàn)預(yù)設(shè)光澤蓋板，其特征在于，所述調(diào)色層包括依次層疊的氧化硅膜層、氧化鈦膜層和氧化硅膜層，各膜層的厚度均為10～300nm；

所述調(diào)色膜包括依次層疊的氧化硅膜層、氧化鈦膜層、氧化硅膜層、氧化鈦膜層、氧化硅膜層、氧化鈦膜層、氧化硅膜層和氧化鈦膜層，各膜層的厚度均為10～300nm，所述調(diào)色膜的寬度為0.01～0.4μm，厚度為100～800nm；

在所述蓋板背向觀察一側(cè)表面上設(shè)置有油墨層，所述油墨層包括黑色油墨層，厚度為3～30μm，或者所述油墨層包括白色油墨層和黑色油墨層，厚度依次為3～30μm、1～20μm。

9.一種電子設(shè)備，其特征在于，包括權(quán)利要求1-8任一項(xiàng)所述的帶絲網(wǎng)效果的可呈現(xiàn)預(yù)設(shè)光澤蓋板。