[實用新型]具有非對稱支撐結構的自動聚焦設備

有效

• 申請號: 201721773962.6
• 申請日: 2017-12-18
• 公開（公告）號: CN207636905U
• 公開（公告）日: 2018-07-20
• 發明（設計）人: 金熙昇;金寅洙
• 申請（專利權）人: 磁化電子株式會社
• 主分類號: G03B13/36
• 分類號: G03B13/36;G02B7/10;G02B7/09
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 王小東

1.一種具有非對稱支撐結構的自動聚焦設備，其特征在于，該自動聚焦設備包括：

具有磁體的第一框架；

第二框架，該第二框架具有用于使所述第一框架在光軸方向上移動的自動聚焦線圈；

位于所述第一框架和所述第二框架之間的第一球體組，該第一球體組具有沿著所述光軸方向布置的數量為n的球體，n為4以上的自然數；以及

在與所述第一球體組不同的位置處位于所述第一框架和所述第二框架之間的第二球體組，該第二球體組具有沿著所述光軸方向布置的數量為m的球體，m為4以上的自然數，

其中，所述第一球體組包括兩個第一支撐球體，所述兩個第一支撐球體比所述第一球體組中的其它球體具有更大尺寸，并且所述第二球體組包括兩個第二支撐球體，所述兩個第二支撐球體比所述第二球體組中的其它球體具有更大尺寸。

2.根據權利要求1所述的具有非對稱支撐結構的自動聚焦設備，其特征在于，

其中，所述第一支撐球體位于所述第一球體組的兩端處；并且

其中，所述第二支撐球體位于所述第二球體組的中央處并且彼此相鄰。

3.根據權利要求2所述的具有非對稱支撐結構的自動聚焦設備，其特征在于，

其中，所述第一支撐球體和所述第二支撐球體具有相同尺寸。

4.根據權利要求2所述的具有非對稱支撐結構的自動聚焦設備，其特征在于，

其中，所述n和m為4；并且

其中，所述第一支撐球體位于所述第一球體組中基于所述光軸方向而言的第一位置和第四位置，并且所述第二支撐球體位于所述第二球體組中基于所述光軸方向而言的第二位置和第三位置。

5.根據權利要求2所述的具有非對稱支撐結構的自動聚焦設備，其特征在于，

其中，所述第一框架具有沿著所述光軸方向延伸的第一引導凹槽和第二引導凹槽；

其中，所述第二框架具有分別面對所述第一引導凹槽和第二引導凹槽的第一容納凹槽和第二容納凹槽；并且

其中，所述第一球體組位于所述第一引導凹槽和所述第一容納凹槽之間，并且所述第二球體組位于所述第二引導凹槽和所述第二容納凹槽之間。

6.根據權利要求5所述的具有非對稱支撐結構的自動聚焦設備，其特征在于，

其中，所述第一引導凹槽和所述第一容納凹槽中的至少一者具有V形橫截面。