[實用新型]一種用于T形軸套零件輝光離子滲氮加工的裝置有效
| 申請號: | 201721762313.6 | 申請日: | 2017-12-16 |
| 公開(公告)號: | CN207775332U | 公開(公告)日: | 2018-08-28 |
| 發明(設計)人: | 鄧國軍 | 申請(專利權)人: | 貴州航天風華精密設備有限公司 |
| 主分類號: | C23C8/38 | 分類號: | C23C8/38 |
| 代理公司: | 貴陽睿騰知識產權代理有限公司 52114 | 代理人: | 谷慶紅 |
| 地址: | 550009 貴州*** | 國省代碼: | 貴州;52 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 輝光離子滲 螺桿 底座 爐罩 爐座 加工 機械屏蔽 滲氮 本實用新型 垂直安裝 應用需求 凸形臺 裝爐量 襯套 內腔 套接 鐘形 | ||
一種用于T形軸套零件輝光離子滲氮加工的裝置,包括爐罩、螺桿、底座、爐座,其中爐罩為鐘形,將爐座包裹于爐罩的內腔底部;爐座上安裝有底座,底座為凸形臺結構,螺桿垂直安裝于底座上;進行滲氮操作時,將T形軸套零件套于螺桿上進行加工。通過本實用新型的實施,使用T形軸套零件套接于螺桿上并通過T形軸套零件與襯套的安裝進行機械屏蔽的方式,解決了T形軸套零件的機械屏蔽問題,提高了T形軸套零件在進行輝光離子滲氮加工過程中的裝爐量,縮短了進行輝光離子滲氮加工的工作時間,加工質量好,能夠滿足T形軸套零件的應用需求,可在T形軸套零件的滲氮加工工藝中進行推廣使用。
技術領域
本實用新型屬于滲氮加工領域,具體涉及一種用于T形軸套零件輝光離子滲氮加工的裝置。
背景技術
目前輝光離子滲氮爐大多采用鐘罩式結構,其原理是利用輝光放電現象,將被處理零件放在輝光離子氮化爐底盤上作為陰極,容器壁作為陽極,將氮化爐預抽真空,慢慢充入氨氣或一定比例的氮、氫混合氣體,并調整氨氣量,使氮化爐的壓強保持在102~103Pa。在陰陽兩極間加上高壓直流電源(300~900V)后,兩極間稀薄氣體電離產生輝光放電,所加電壓在距零件表面數毫米前的空間顯示出電位的急劇下降,形成陰極電位降區。在該區,輸入爐內的稀薄氣體和氫氣在沖撞過程中被電離,在電場下,氫、氮的正離子朝陰極表面強烈加速,轟擊零件表面,產生加熱、濺射、吸附過程。由于離子轟擊,從陰極(即零件)表面逸出電子并濺射出鐵原子,形成約0.05mm的位錯層,對氮的擴散起了有利作用,濺射出的鐵原子與離子或原子態的氮化合,形成FeN,吸附在零件表面,從而提高了零件表面的硬度。已廣泛應用于碳鋼、合金結構鋼、工模具鋼、不銹鋼、鑄鐵、鈦合金、粉末冶金等材料的表面強化。
輝光離子滲氮是通過零件直接加熱而升溫,盡管能耗小,但需要零件形成批量,形成批量的目的是提高升溫速度和保持爐內溫度,當零件數量較少形不成批量時,通常是裝入工裝方式增大裝爐量。對滲氮零件的外形要求是避免不規則、窄縫、深孔、盲孔、鍵槽等,對不需要滲氮的部位要進行機械屏蔽。對于T形軸套零件外圓表面的滲氮屬于局部滲氮,因此需考慮對T形軸套零件的內孔及端面進行屏蔽。目前的裝爐及屏蔽方法是將零件大端面直接放置于爐底盤上,小端面向上放置,同時在小端面蓋上與小端外圓直徑相同的圓形蓋板進行屏蔽,當端面面積較小時,小端面上的蓋板容易錯位或滑落,錯位造成零件與蓋板間出現窄縫和環槽,滑落導致零件內孔被滲氮。按照目前的滲氮裝爐和屏蔽方法,不但裝爐量小,而且會出現滲氮加工的質量較差,不能滿足應用需求。
實用新型內容
為解決上述技術問題,本實用新型提供了一種用于T形軸套零件輝光離子滲氮加工的裝置,該用于T形軸套零件輝光離子滲氮加工的裝置通過
本實用新型通過以下技術方案得以實現。
本實用新型提供的一種用于T形軸套零件輝光離子滲氮加工的裝置,包括爐罩、螺桿、底座、爐座,其中爐罩為鐘形,將爐座包裹于爐罩的內腔底部;爐座上安裝有底座,底座為凸形臺結構,螺桿垂直安裝于底座上;進行滲氮操作時,將T形軸套零件套于螺桿上進行加工。
所述T形軸套零件為多個,進行安裝時將兩個T形軸套零件的外徑較大端進行靠接形成一組并套于螺桿上。
每兩組T形軸套零件之間安裝有一個襯套。
所述螺桿與底座的安裝端設有外螺紋,底座上設有安裝孔,安裝孔內設有與螺桿的外螺紋相配合的內螺紋;安裝時,螺桿旋緊于底座的安裝孔中。
所述螺桿的外徑尺寸較T形軸套零件的內孔尺寸小0.5-1mm。
所述襯套的內徑尺寸較螺桿的外徑尺寸大0.5-1mm。
所述T形軸套零件與底座之間設有也安裝有一個襯套。
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