[實用新型]一種光學衰減片鍍膜結構有效
| 申請號: | 201721751993.1 | 申請日: | 2017-12-15 |
| 公開(公告)號: | CN207976599U | 公開(公告)日: | 2018-10-16 |
| 發明(設計)人: | 歐杰輝 | 申請(專利權)人: | 深圳市飛萊特科技有限公司 |
| 主分類號: | G02B1/14 | 分類號: | G02B1/14 |
| 代理公司: | 深圳市中聯專利代理有限公司 44274 | 代理人: | 李俊 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市龍*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 金屬鉻層 二氧化硅層 光學衰減片 鍍膜結構 氧化鉭層 功能層 基材層 刮傷 本實用新型 | ||
本實用新型所涉及一種光學衰減片鍍膜結構,其包括基材層,設置于基材層上面的功能層;所述功能層是由氧化鉭層與金屬鉻層組成,所述氧化鉭層位于下面,而金屬鉻層位于上面;所述的金屬鉻層上設置有二氧化硅層。該二氧化硅層能防止金屬鉻層表面成被氧化或被刮傷的現象發生,從而達到防止金屬鉻層被氧化或被刮傷的目的。
【技術領域】
本實用新型涉及一種用于光纖CATV領域方面的光學衰減片鍍膜結構。
【背景技術】
光學衰減片顧名思義就是對于特定的光學信號經過光學元件之后會產生固定百分比的衰減(dB);需要經過光學元件后產生固定百分比衰減的效果。通常做到衰減效果的都會使用金屬做吸收層達到衰減的效果。但由于金屬暴露在大氣中容易氧化,并且與外界接觸等容易在表面造成劃痕。
【實用新型內容】
有鑒于此,本實用新型所要解決的技術問題是提供一種能防止金屬鉻層被氧化機或被刮傷的光學衰減片鍍膜結構。
為此解決上述技術問題,本實用新型中的技術方案所采用一種光學衰減片鍍膜結構,其包括基材層,設置于基材層上面的功能層;所述功能層是由氧化鉭與金屬鉻層組成,所述氧化鉭層位于下面,而金屬鉻層位于上面;功能層利用金屬鉻對光信號的吸收實現對光信號的衰減;所述的金屬鉻層上設置有二氧化硅層。
依據上述主要技術特征所述,所述基材層是由BK7玻璃制成的
依據上述主要技術特征所述,所述金屬鉻層上面形成有用于防止金屬鉻層表面氧化,刮傷,污染的金屬保護層。
依據上述主要技術特征所述,所述金屬保護層是由二氧化硅材料制成二氧化硅層。
本實用新型的有益技術效果:因所述功能層是由氧化鉭層與金屬鉻層組成,所述氧化鉭層位于下面,而金屬鉻層位于上面;所述的金屬鉻層上設置有二氧化硅層。該二氧化硅層能防止金屬鉻層表面成被氧化或被刮傷的現象發生,從而達到防止金屬鉻層被氧化機或被刮傷的目的。。
下面結合附圖和實施例,對本實用新型的技術方案做進一步的詳細描述。
【附圖說明】
圖1為本實用新型中光學衰減片鍍膜結構的示意圖。
【具體實施方式】
為了使本實用新型所要解決的技術問題、技術方案及有益效果更加清楚、明白,以下結合附圖和實施例,對本實用新型進行進一步詳細說明。應當理解,此處所描述的具體實施例僅用以解釋本實用新型,并不用于限定本實用新型。
請參考圖1所示,下面結合實施例說明一種光學衰減片鍍膜結構,其包括基材層1,設置于基材層1上面的氧化鉭層3,設置于氧化鉭層3上的金屬鉻層 2。金屬鉻層2上面設置有二氧化硅層4。
所述基材層1是由BK7玻璃制成的。所述金屬鉻層2上面設置有用于防止金屬鉻層2表面氧化,刮傷,污染的金屬保護層。所述金屬保護層是由二氧化硅材料制成二氧化硅層4。
在基材層1與金屬鉻層2之外增加一層二氧化硅材料后,可保護金屬鉻層 2防止氧化、刮傷、污染。通過美軍標光通訊元件可靠性試驗《美軍標MIL-C-48497A》及高溫85℃高濕85RH老化試驗1000小時無脫落、老化,通過鉛筆硬度測試無劃痕。
綜上所述,因所述功能層是由氧化鉭層3與金屬鉻層2組成,所述氧化鉭層3位于下面,而金屬鉻層2位于上面;所述的金屬鉻層2上設置有二氧化硅層4。該二氧化硅層4能防止金屬鉻層2表面成被氧化或被刮傷的現象發生,從而達到防止金屬鉻層2被氧化機或被刮傷的目的。
以上參照附圖說明了本實用新型的優選實施例,并非因此局限本實用新型的權利范圍。本領域技術人員不脫離本實用新型的范圍和實質內所作的任何修改、等同替換和改進,均應在本實用新型的權利范圍之內。
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