[實用新型]一種制備多晶硅的還原系統有效
| 申請號: | 201721747589.7 | 申請日: | 2017-12-14 |
| 公開(公告)號: | CN207671692U | 公開(公告)日: | 2018-07-31 |
| 發明(設計)人: | 馮謹;楊刊;郝福濤 | 申請(專利權)人: | 河北東明中硅科技有限公司 |
| 主分類號: | C01B33/03 | 分類號: | C01B33/03 |
| 代理公司: | 北京德崇智捷知識產權代理有限公司 11467 | 代理人: | 賈凱 |
| 地址: | 050000 河北省石*** | 國省代碼: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 換熱箱 氣體配比裝置 原料供應系統 本實用新型 氣體混合器 還原系統 混配裝置 氣壓平衡 無定型硅 多晶硅 還原爐 制備 隔板 三氯氫硅儲罐 還原爐內壁 混合器殼體 流量控制板 換熱箱體 混合氣體 混合葉片 控制齒輪 冷媒出管 冷媒進管 摩爾配比 平衡箱體 氫氣儲罐 氫氣流量 三氯氫硅 生產過程 溫度計 調節桿 控制板 連接柱 平衡箱 直齒條 爐壁 底座 附著 保溫 能耗 | ||
1.一種制備多晶硅的還原系統,其特征在于:包括底座(1),由左至右依次設置于所述底座(1)上并依次相連通的原料供應系統(2),原料混配裝置(3)和還原爐(4);
所述原料供應系統(2)包括氫氣儲罐(21)和三氯氫硅儲罐(22),所述氫氣儲罐(21)通過第一氫氣輸送管(211)與所述原料混配裝置(3)相連通,所述三氯氫硅儲罐(22)通過第一三氯氫硅輸送管(221)與所述原料混配裝置(3)相連通;
所述原料混配裝置(3)包括換熱箱(31),設置于所述換熱箱(31)內的氣壓平衡箱(32),設置于所述換熱箱(31)外部并與所述氣壓平衡箱(32)相連通的氣體混合器(33)和設置于所述換熱箱(31)上的氣體配比裝置(34);所述第一氫氣輸送管(211)穿過所述換熱箱(31)后與所述氣壓平衡箱(32)相連通,所述第一三氯氫硅輸送管(221)穿過所述換熱箱(31)后與所述氣壓平衡箱(32)相連通;所述氣體混合器(33)通過混合氣出管與所述還原爐(4)的進氣口相連通;
所述換熱箱(31)包括換熱箱體(311)和換熱箱蓋(312);所述換熱箱體(311)上設有熱媒進管(3111)和熱媒出管(3112);
所述氣壓平衡箱(32)包括平衡箱體(321),平衡箱蓋(322),滑動設置于所述平衡箱體(321)內部的隔板(323)和若干個將所述平衡箱體(321)固定于所述換熱箱體(311)上的連接柱(324);所述隔板(323)將所述平衡箱體(321)分割為氫氣儲腔(3211)和三氯氫硅儲腔(3212),所述氫氣儲腔(3211)與第一氫氣輸送管(211)相連通,所述三氯氫硅儲腔(3212)與所述第一三氯氫硅輸送管(221)相連通,所述氫氣儲腔(3211)上設有穿過所述換熱箱體(311)與所述氣體混合器(33)相連通的第二氫氣輸送管(3213),所述三氯氫硅儲腔(3212)上設有穿過所述換熱箱體(311)與所述氣體混合器(33)相連通的第二三氯氫硅輸送管(3214),所述第二氫氣輸送管(3213)的橫截面與所述第二三氯氫硅輸送管(3214)的橫截面的尺寸相同;
所述氣體混合器(33)包括混合器殼體(331)和設置于所述混合器殼體(331)內的混合葉片(332),所述第二氫氣輸送管(3213)及第二三氯氫硅輸送管(3214)均與所述混合器殼體(331)內部相連通;
所述氣體配比裝置(34)包括滑動設置于所述換熱箱體(311)外的調節桿(341)和轉動設置于所述換熱箱體(311)外并控制所述調節桿(341)滑動的控制齒輪(342);所述調節桿(341)的一端設有伸入所述第二氫氣輸送管(3213)內的氫氣流量控制板(3411),所述調節桿(341)的另一端設有伸入所述第二三氯氫硅輸送管(3214)內部的三氯氫硅流量控制板(3412),所述氫氣流量控制板(3411)與所述三氯氫硅流量控制板(3412)相互遠離的端面之間的距離等于所述第二氫氣輸送管(3213)與所述第二三氯氫硅輸送管(3214)中心軸線之間的距離,所述調節桿(341)上設有與所述控制齒輪(342)相嚙合的直齒條(3413);所述控制齒輪(342)上一體設置有旋轉手輪(3421),控制齒輪(342)上設置有氣體配比指示箭頭(3422),所述換熱箱體(311)上設置有顯示氣體配比的標度(3113);
所述還原爐(4)的爐壁由內爐壁(41)和外爐壁(42)套設而成,所述內爐壁(41)和外爐壁(42)之間設有夾套層(43),所述外爐壁(42)上設有與所述夾套層(43)相連通的冷媒進管(421)和冷媒出管(422),所述冷媒進管(421)和冷媒出管(422)上均設有溫度計(423)。
2.根據權利要求1所述的一種制備多晶硅的還原系統,其特征在于:所述控制齒輪(342)上設置有定位頂絲(3423)。
3.根據權利要求1所述的一種制備多晶硅的還原系統,其特征在于:所述隔板(323)與所述平衡箱體(321)的內壁接觸處設有橡膠密封條。
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