[實用新型]抗雜散光干擾的近背向散射光測量系統有效
| 申請號: | 201721747479.0 | 申請日: | 2017-12-14 |
| 公開(公告)號: | CN207636278U | 公開(公告)日: | 2018-07-20 |
| 發明(設計)人: | 閆亞東;何俊華;張敏;韋明智;薛艷博;許瑞華 | 申請(專利權)人: | 中國科學院西安光學精密機械研究所 |
| 主分類號: | G01M11/02 | 分類號: | G01M11/02 |
| 代理公司: | 西安智邦專利商標代理有限公司 61211 | 代理人: | 陳廣民 |
| 地址: | 710119 陜西省西*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 漫反射板 背向散射光 測量系統 成像鏡頭 隔離屏 本實用新型 雜散光干擾 測量裝置 取樣裝置 一次像面 真空靶室 室內壁 散射 靶點 光學測量技術 測量窗口 穿透測量 激光通道 漫反射光 反方向 漫反射 通光孔 雜散光 屏蔽 附著 光路 球壁 入射 雜光 成像 激光 室內 診斷 | ||
1.一種抗雜散光干擾的近背向散射光測量系統,包括取樣裝置和測量裝置,其特征在于:所述取樣裝置包括球狀真空靶室和成像鏡頭,所述球狀真空靶室內設置有靶點和帶有打靶激光通道的漫反射板,所述漫反射板附著于球狀真空靶室內壁上;所述球狀真空靶室的球壁上設置有測量窗口;打靶激光入射靶點產生的近背向散射光沿打靶反方向散射后由漫反射板產生漫反射,漫反射光穿透測量窗口后再通過成像鏡頭進入測量裝置;所述成像鏡頭將漫反射板成像于一次像面,一次像面所在的平面上設置有隔離屏,所述隔離屏帶有多個通光孔。
2.根據權利要求1所述的抗雜散光干擾的近背向散射光測量系統,其特征在于:所述測量裝置包括沿光路傳播方向依次設置的縮束正透鏡和二向色鏡;所述二向色鏡將光譜分離后,長波被透射進入長波透射光測量單元,短波被反射進入短波反射光測量單元。
3.根據權利要求2所述的抗雜散光干擾的近背向散射光測量系統,其特征在于:所述長波透射光測量單元的長波取樣測試像面上設置有長波光吸收陷阱。
4.根據權利要求2所述的抗雜散光干擾的近背向散射光測量系統,其特征在于:所述短波反射光測量單元的短波取樣測試像面上設置有短波光吸收陷阱。
5.根據權利要求1-4中任一所述的抗雜散光干擾的近背向散射光測量系統,其特征在于:所述漫反射板為異形漫反射板。
6.根據權利要求5所述的抗雜散光干擾的近背向散射光測量系統,其特征在于:所述成像鏡頭與測量窗口之間設置有取樣光闌。
7.根據權利要求6所述的抗雜散光干擾的近背向散射光測量系統,其特征在于:所述異形漫反射板為橢球面漫反射白板,所述靶點位于橢球面漫反射白板的一個焦點上,所述取樣光闌中心位于橢球面漫反射白板的另一個焦點上。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國科學院西安光學精密機械研究所,未經中國科學院西安光學精密機械研究所許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201721747479.0/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





