[實用新型]線性蒸發源及連續式蒸鍍設備

有效

• 申請號: 201721742630.1
• 申請日: 2017-12-14
• 公開（公告）號: CN207727135U
• 公開（公告）日: 2018-08-14
• 發明（設計）人: 楊世航;劉壯;張擷秋;崔駿;李霖
• 申請（專利權）人: 深圳先進技術研究院
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/56
• 代理公司: 深圳市銘粵知識產權代理有限公司 44304
• 代理人: 孫偉峰

1.一種線性蒸發源，其特征在于，包括：

坩堝(10)，用于容納材料并對所述材料進行第一次蒸發；

第一加熱器(20)，用于加熱所述坩堝(10)；

噴射管(30)，所述噴射管(30)與所述坩堝(10)連通，用于對所述材料進行第二次蒸發，且所述噴射管(30)包括管本體(32)以及若干個噴嘴(31)，所述若干個噴嘴(31)沿所述管本體(32)的長度方向排列于所述管本體(32)上，所述噴嘴(31)用于將經過第二次蒸發的所述材料噴出；

第二加熱器(40)，用于對所述噴射管(30)進行加熱。

2.根據權利要求1所述的線性蒸發源，其特征在于，所述坩堝(10)包括坩堝本體和坩堝蓋，所述坩堝本體的一端開設有敞口，所述坩堝蓋蓋設于所述敞口上，所述坩堝蓋開設有通孔，所述管本體(32)為一端封閉且另一端開口的圓柱體管道，所述管本體(32)的開口與所述坩堝蓋的通孔對接。

3.根據權利要求2所述的線性蒸發源，其特征在于，所述線性蒸發源還包括一端封閉且另一端開口的第一屏蔽罩(50)，所述坩堝(10)設置于所述第一屏蔽罩(50)內，所述第一加熱器(20)設置于所述坩堝(10)與所述第一屏蔽罩(50)之間。

4.根據權利要求2所述的線性蒸發源，其特征在于，所述線性蒸發源還包括第二屏蔽罩(60)，所述第二屏蔽罩(60)的兩端開口且沿長度方向上開設有第一長槽(61)，所述管本體(32)設置于所述第二屏蔽罩(60)內，且所述噴嘴(31)伸出于所述第一長槽(61)外，所述第二加熱器(40)設置于所述第二屏蔽罩(60)和所述管本體(32)之間。

5.根據權利要求4所述的線性蒸發源，其特征在于，所述線性蒸發源還包括第三屏蔽罩(70)，所述第三屏蔽罩(70)的兩端開口且沿長度方向上開設有第二長槽(71)，所述第三屏蔽罩(70)套設于所述第二屏蔽罩(60)外，所述噴嘴(31)伸出于所述第二長槽(71)之外。

6.根據權利要求1所述的線性蒸發源，其特征在于，所述第一加熱器(20)和/或所述第二加熱器(40)為電阻式加熱器。

7.根據權利要求1所述的線性蒸發源，其特征在于，若干個所述噴嘴(31)間隔設置且呈同一直線排列。

8.根據權利要求7所述的線性蒸發源，其特征在于，相鄰兩個所述噴嘴(31)的間距為10mm至100mm。

9.一種連續式蒸鍍設備，其特征在于，包括若干個相互連通的真空鍍膜腔(80)、傳送機構(90)和權利要求1至8任一項所述的線性蒸發源，所述傳送機構(90)用于傳輸待蒸鍍樣品(100)，使得所述待蒸鍍樣品(100)在若干個所述真空鍍膜腔(80)之間往復運動，所述線性蒸發源設置于所述真空鍍膜腔(80)內，且所述噴嘴(31)朝向所述待蒸鍍樣品(100)。

10.根據權利要求9所述的連續式蒸鍍設備，其特征在于，所述連續式蒸鍍設備還包括設于所述真空鍍膜腔(80)內的厚度檢測儀(110)，所述厚度檢測儀(110)用于檢測所述待蒸鍍樣品(100)的鍍膜厚度。