[實用新型]邊緣光刻膠去除裝置及涂膠機

有效

• 申請號: 201721741475.1
• 申請日: 2017-12-14
• 公開（公告）號: CN207557649U
• 公開（公告）日: 2018-06-29
• 發明（設計）人: 王矯陽;柯汎宗;葛偉偉;黃志凱
• 申請（專利權）人: 德淮半導體有限公司
• 主分類號: G03F7/42
• 分類號: G03F7/42;G03F7/16
• 代理公司: 上海盈盛知識產權代理事務所(普通合伙) 31294
• 代理人: 孫佳胤;董琳

本實用新型涉及一種邊緣光刻膠去除裝置以及涂膠機，所述邊緣光刻膠去除裝置包括：支架；驅動部，位于所述支架一端；噴嘴，安裝于所述驅動部上，所述驅動部用于自動調整所述噴嘴的傾斜角度。所述邊緣光刻膠去除裝置以及涂膠機可以自動調整噴嘴的角度，獲得更好的光刻膠形貌。

技術領域

本實用新型涉及半導體技術領域，尤其涉及一種邊緣光刻膠去除裝置及涂膠機。

背景技術

光刻工藝中，光刻膠是以旋轉涂膠的方式涂布于晶圓(Wafer)表面，但由于離心力的作用，會導致Wafer邊緣的光刻膠偏厚，因此通常采用EBR(Edge Bead Remove)的方式，去除邊緣偏厚的光刻膠。而EBR的噴嘴是由設備人員固定于機臺，制成人員通過設定的制程控制噴嘴的前進距離，進而控制EBR的范圍。

請參考圖1，為現有的進行EBR處理的裝置示意圖。

所述EBR處理的裝置包括支架14，運動部12，固定件13以及噴嘴11。噴嘴11通過固定件13固定于所述運動部12上，跟隨所述運動部12運動進行前進運動。

但是制程對噴嘴11的角度及高度有一定的要求，因此需要設備人員拆機手動調整所述固定件13的固定角度，從而實現對噴嘴11的角度調整，直到滿足制程需求為止。這就增加了工藝的時間及生產成本。

如何自動調整噴嘴角度是目前亟待解決的問題。

實用新型內容

本實用新型所要解決的技術問題是，提供一種邊緣光刻膠去除裝置和涂膠機，能夠自動調整噴嘴的角度，節約調整時間。

為解決上述問題，本實用新型提供一種邊緣光刻膠去除裝置，包括：支架；驅動部，位于所述支架一端；噴嘴，安裝于所述驅動部上，所述驅動部用于自動調整所述噴嘴的傾斜角度。

可選的，所述驅動部還用于控制所述噴嘴在垂直于地面方向運動。

可選的，所述驅動部包括升降元件、旋轉元件以及固定元件；所述噴嘴通過固定元件安裝于所述驅動部，所述升降元件與所述固定元件連接，用于調整所述固定元件的高度，所述旋轉元件與所述固定元件，用于調整所述固定元件的角度。

可選的，還包括控制器，與驅動部連接，用于控制所述驅動部調整噴嘴的高度以及角度。

可選的，還包括一監視器，固定于所述驅動部上，用于在去除邊緣光刻膠的過程中，獲取邊緣光刻膠去除情況。

可選的，所述監視器包括圖像傳感器或距離傳感器。

可選的，還包括顯示器，與所述監視器連接，用于實時顯示光刻膠去除情況。

可選的，所述控制器還與監視器連接，用于根據所述監視器獲取的邊緣光刻膠去除情況，自動控制所述驅動部調整噴嘴的高度以及角度。

為解決上述問題，本實用新型還提供一種涂膠機，包括上述邊緣光刻膠去除裝置。

本實用新型的邊緣光刻膠去除裝置的噴嘴能夠自由旋轉，自動調整噴嘴的角度和高度；并且還可以包括一監視器，使得手動調整變成自動調整，節省生產時間，提高產能，可以使技術人員實時監控晶圓邊緣的光刻膠去除情況，在監控的同時可以自動調整噴嘴角度以及高度。

本實用新型的涂膠機包括噴嘴能夠自由旋轉的邊緣光刻膠去除裝置，能夠實時監控晶圓邊緣的光刻膠去除情況，自動調整噴嘴的角度和高度，提高最終能形成的光刻膠層的形貌。

附圖說明

圖1為現有技術的邊緣光刻膠去除裝置的結構示意圖；

圖2為本實用新型一具體實施方式的邊緣光刻膠去除裝置的結構示意圖；

圖3為本實用新型一具體實施方式的邊緣光刻膠去除裝置的結構示意圖；