[實用新型]鍍鋁遮具有效
| 申請號: | 201721734075.8 | 申請日: | 2017-12-13 |
| 公開(公告)號: | CN207672120U | 公開(公告)日: | 2018-07-31 |
| 發明(設計)人: | 趙華貴 | 申請(專利權)人: | 廣州斯坦雷電氣有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/04 | 分類號: | C23C14/04;C23C16/04;C25D5/02 |
| 代理公司: | 廣州市越秀區哲力專利商標事務所(普通合伙) 44288 | 代理人: | 邵穗娟;湯喜友 |
| 地址: | 510530 廣東省廣州*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 面板本體 承托 底模 鍍鋁 遮擋 操作孔 導向孔 導向套 導向軸 矯正 把手 本實用新型 定位準確 良品率 注塑件 形變 劃傷 收容 配合 生產 | ||
本實用新型公開了一種鍍鋁遮具,包括遮擋面板及承托底模,遮擋面板包括把手及面板本體;把手固定于面板本體,面板本體包括上產品接觸面、矯正接觸部、至少兩導向軸及操作孔,承托底模包括下產品接觸面及至少兩導向套,每一導向套設有導向孔。至少兩導向軸配合收容于至少兩導向孔使遮擋面板與承托底模定位準確,解決了遮具精度不足的問題;安裝時產品先與矯正接觸部接觸,減少因操作手法、注塑件產品形變帶來的劃傷不良,提高生產良品率;安裝完成后,通過操作孔進行鍍鋁,操作簡便,結構新穎,設計巧妙,適用性強。
技術領域
本實用新型涉及鍍層領域,尤其涉及一種鍍鋁遮具。
背景技術
目前,隨著工業化進程的逐步深入,越來越多的鍍鋁遮具應用到工廠設備中。
但是,現有的遮具存在以下缺陷:
目前使用活頁開合式或定向導入式的遮具,遮具采用活頁或者產品的非外觀面進行定位,但活頁精度不足且容易磨損,作業員容易操作失誤,使注塑件有輕微形變,生產時產品容易劃傷,造成良品率低下。
實用新型內容
為了克服現有技術的不足,本實用新型的目的之一在于提供一種鍍鋁遮具,其能解決定位不準確的問題。
本實用新型的目的之一采用如下技術方案實現:
一種鍍鋁遮具,包括遮擋面板及承托底模,所述遮擋面板包括把手及面板本體;所述把手固定于所述面板本體,所述面板本體包括上產品接觸面、矯正接觸部、至少兩導向軸及操作孔,所述矯正接觸部凸出于所述上產品接觸面,所述至少兩導向軸固定于所述上產品接觸面;所述承托底模包括下產品接觸面及至少兩導向套,每一所述導向套設有導向孔,所述至少兩導向套固定于所述下產品接觸面;所述至少兩導向軸與所述至少兩導向孔相對應,產品固定于所述遮擋面板與所述承托底模之間,所述至少兩導向軸配合收容于所述至少兩導向孔使所述遮擋面板與所述承托底模定位準確。
進一步地,所述導向軸垂直于所述上產品接觸面。
進一步地,所述導向軸的數量與所述導向套的數量相同。
進一步地,所述導向套垂直于所述下產品接觸面。
進一步地,所述導向套的軸線與所述導向軸的軸線在同一直線上。
進一步地,所述導向軸的數量為2個。
進一步地,所述導向套的數量為2個。
相比現有技術,本實用新型的有益效果在于:
所述至少兩導向軸配合收容于所述至少兩導向孔使所述遮擋面板與所述承托底模定位準確,解決了遮具精度不足的問題;安裝時產品先與矯正接觸部接觸,減少因操作手法、注塑件產品形變帶來的劃傷不良,提高生產良品率;安裝完成后,通過所述操作孔進行鍍鋁,操作簡便,結構新穎,設計巧妙,適用性強。
上述說明僅是本實用新型技術方案的概述,為了能夠更清楚了解本實用新型的技術手段,而可依照說明書的內容予以實施,并且為了讓本實用新型的上述和其他目的、特征和優點能夠更明顯易懂,以下特舉較佳實施例,并配合附圖,詳細說明如下。
附圖說明
圖1為本實用新型鍍鋁遮具中一較佳實施例的主視圖。
圖中:100、鍍鋁遮具;10、遮擋面板;11、把手;12、面板本體;121、上產品接觸面;122、矯正接觸部;123、導向軸;20、承托底模;21、下產品接觸面;22、導向套;221、導向孔。
具體實施方式
下面,結合附圖以及具體實施方式,對本實用新型做進一步描述,需要說明的是,在不相沖突的前提下,以下描述的各實施例之間或各技術特征之間可以任意組合形成新的實施例。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于廣州斯坦雷電氣有限公司,未經廣州斯坦雷電氣有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201721734075.8/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種用于細長管內壁氣體滲氮的裝置
- 下一篇:一種真空冷卻新型工裝
- 同類專利
- 專利分類





