[實用新型]一種耐壓半導(dǎo)體器件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201721710114.0 | 申請日: | 2017-12-11 |
| 公開(公告)號: | CN207719195U | 公開(公告)日: | 2018-08-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 羅艷 | 申請(專利權(quán))人: | 四川九鼎智遠(yuǎn)知識產(chǎn)權(quán)運營有限公司 |
| 主分類號: | H01L23/495 | 分類號: | H01L23/495;H01L23/522 |
| 代理公司: | 成都九鼎天元知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 51214 | 代理人: | 詹永斌 |
| 地址: | 610041 四川省成都市高新*** | 國省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 介質(zhì)層 隔離層 漏極 源極 半導(dǎo)體器件 本實用新型 導(dǎo)體 金屬場板 半絕緣 氧化層 場板 電阻 極板 耐壓 電容器 擊穿電壓 介電常數(shù) 依次設(shè)置 襯底 跨設(shè) 覆蓋 下層 兩邊 上層 | ||
1.一種耐壓半導(dǎo)體器件,其特征在于,包括:
P型襯底;
隔離層,所述隔離層位于所述P型襯底上;
N型硅層,所述N型硅層位于所述隔離層上;
P型阱,所述P型阱位于所述N型硅層一側(cè)的所述隔離層上;
N型阱,所述N型阱位于所述N型硅層另一側(cè)的所述隔離層上;
源極,所述源極位于所述P型阱上;
漏極,所述漏極位于所述N型阱上;
氧化層,所述氧化層位于所述N型硅層上;
第一介質(zhì)層,所述第一介質(zhì)層覆蓋所述源極和漏極之間的所述氧化層、P型阱和N型阱;
第二介質(zhì)層,所述第二介質(zhì)層覆蓋所述源極和漏極之間的所述第一介質(zhì)層,所述第二介質(zhì)層上設(shè)有凹槽,所述凹槽內(nèi)形成有柵極;
金屬場板,所述金屬場板跨設(shè)在所述柵極上,所述金屬場板的截面形狀為中間高兩邊低的階梯形;
第三介質(zhì)層,所述第三介質(zhì)層位于所述柵極和金屬場板之間,且所述金屬場板的一端與源極連接,另一端搭接在所述第三介質(zhì)層上;
其中,所述第一介質(zhì)層內(nèi)具有位于下層的多個半絕緣電阻極板和位于上層的多個導(dǎo)體場板,所述多個半絕緣電阻極板和所述多個導(dǎo)體場板均橫向間隔排列,且任意一個所述半絕緣電阻極板與上層相鄰的一個導(dǎo)體場板垂直連接,與上層相鄰的另一個導(dǎo)體場板構(gòu)成電容器,位于左右最外側(cè)的兩個導(dǎo)體場板分別與所述P型阱和N型阱垂直連接;所述第三介質(zhì)層的介電常數(shù)大于4。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的耐壓半導(dǎo)體器件,其特征在于,所述多個半絕緣電阻極板設(shè)于所述氧化層上表面。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的耐壓半導(dǎo)體器件,其特征在于,相鄰兩個半絕緣電阻極板的間距為2微米。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的耐壓半導(dǎo)體器件,其特征在于,所述柵極的截面形狀為T形。
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