[實用新型]一種使用方便的鍍膜材料研磨裝置

有效

• 申請號: 201721703363.7
• 申請日: 2017-12-10
• 公開（公告）號: CN207805708U
• 公開（公告）日: 2018-09-04
• 發明（設計）人: 戴和貴
• 申請（專利權）人: 丹陽市科達鍍膜材料有限公司
• 主分類號: B02C4/10
• 分類號: B02C4/10
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種使用方便的鍍膜材料研磨裝置，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)的上表面固定安裝有放置塊(2)，所述放置塊(2)的上表面兩端均固定安裝有凸出塊(17)，所述放置塊(2)的上表面兩端均插接有擋板(3)，所述擋板(3)的中心處插接有圓柱(4)，所述擋板(3)的外表面頂部開設有與圓柱(4)相連接的滑槽(18)，所述圓柱(4)的外表面套接有一端位于放置塊(2)內腔的圓盤(5)，所述圓柱(4)的右端固定安裝有連接桿(6)，所述連接桿(6)的右端套接有豎桿(7)，所述放置塊(2)的右表面固定安裝有底板(8)，所述底板(8)的下表面固定安裝有與底座(1)相連接的斜桿(9)，所述底板(8)的上表面兩端均固定安裝有下套柱(10)，所述下套柱(10)的頂部插接有彈簧(11)，所述彈簧(11)的頂部套接有上套柱(12)，所述上套柱(12)的頂部固定安裝有活動板(13)，所述活動板(13)的頂部固定安裝有伺服電機(14)，所述伺服電機(14)的輸出軸固定安裝有與豎桿(7)相連接的旋轉桿(15)，所述活動板(13)的左端固定安裝有插接在放置塊(2)內部的移動板(16)。

2.根據權利要求1所述的一種使用方便的鍍膜材料研磨裝置，其特征在于：所述放置塊(2)的上表面開設有半圓形的槽，且放置塊(2)的高度為三十厘米至五十厘米。

3.根據權利要求1所述的一種使用方便的鍍膜材料研磨裝置，其特征在于：所述圓盤(5)的材料為鋼，且圓盤(5)的厚度為十厘米至二十厘米，所述圓盤(5)的形狀為圓柱形。

4.根據權利要求1所述的一種使用方便的鍍膜材料研磨裝置，其特征在于：所述滑槽(18)的數量為兩個，且滑槽(18)的形狀為半圓形，所述滑槽(18)的寬度等于圓柱(4)的直徑。

5.根據權利要求1所述的一種使用方便的鍍膜材料研磨裝置，其特征在于：所述斜桿(9)的數量不少于兩個，且斜桿(9)與底板(8)之間的角度為三十度至四十五度。

6.根據權利要求1所述的一種使用方便的鍍膜材料研磨裝置，其特征在于：所述移動板(16)的底部到放置塊(2)頂部的距離大于滑槽(18)底部到滑槽(18)頂部的距離。