[實用新型]降噪研磨實驗儀

有效

• 申請號: 201721676091.6
• 申請日: 2017-12-06
• 公開（公告）號: CN207951653U
• 公開（公告）日: 2018-10-12
• 發明（設計）人: 張剛
• 申請（專利權）人: 天津綠格瑞科技發展有限公司
• 主分類號: B02C19/00
• 分類號: B02C19/00;B02C23/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型提供降噪研磨實驗儀,研磨架設置在研磨外殼的上部，降噪裝置設置在研磨外殼內，研磨器皿設置在研磨外殼的底部，研磨器通過研磨驅動設置在研磨架上，控制器設置在研磨外殼上。在研磨外殼內設置有降噪裝置，通過降噪裝置中的吸音棉能夠對溶出儀所產生的噪音進行吸收，由于吸音件上的吸音口相錯設置，使得吸音件能夠對于不同方向所產生的噪音進行全方位的吸收，從而減小研磨實驗儀在使用過程中的噪音，改善使用者的實驗環境。

技術領域

本實用新型涉及實驗裝置技術領域，更具體地說涉及一種降噪研磨實驗儀。

背景技術

研磨利用涂敷或壓嵌在研具上的磨料顆粒，通過研具與工件在一定壓力下的相對運動對加工表面進行的精整加工(如切削加工)。

研磨方法一般可分為濕研、干研和半干研3類。①濕研：又稱敷砂研磨，把液態研磨劑連續加注或涂敷在研磨表面，磨料在工件與研具間不斷滑動和滾動，形成切削運動，濕研一般用于粗研磨，所用微粉磨料粒度粗于W7；②干研：又稱嵌砂研磨，把磨料均勻在壓嵌在研具表面層中，研磨時只須在研具表面涂以少量的硬脂酸混合脂等輔助材料，干研常用于精研磨，所用微粉磨料粒度細于W7；③半干研：類似濕研，所用研磨劑是糊狀研磨膏，研磨既可用手工操作，也可在研磨機上進行，工件在研磨前須先用其他加工方法獲得較高的預加工精度，所留研磨余量一般為5-30微米。

實用新型內容

本實用新型克服了現有技術中的不足，提供了一種降噪研磨實驗儀。

本實用新型的目的通過下述技術方案予以實現。

降噪研磨實驗儀,包括研磨外殼、研磨架、研磨器、研磨驅動、研磨器皿、降噪裝置和控制裝置，所述研磨架設置在所述研磨外殼的上部，所述降噪裝置設置在所述研磨外殼內，所述研磨器皿設置在所述研磨外殼的底部，所述研磨器通過所述研磨驅動設置在所述研磨架上，所述控制裝置設置在所述研磨外殼上，所述研磨架包括轉動架和支撐架，所述支撐架設置在所述研磨外殼內，所述轉動架設置在所述支撐架上，所述轉動架采用圓環形的結構，所述研磨驅動包括轉動驅動、伸縮驅動、升縮桿、研磨桿和研磨頭，所述轉動驅動套接在所述轉動架上，所述伸縮驅動設置在所述轉動驅動的底部，所述伸縮驅動的輸出軸與所述升縮桿相連，所述升縮桿的另一端與所述研磨桿相連，所述研磨桿的另一端與所述研磨頭相連，所述降噪裝置包括吸音棉、吸音件和吸音口，所述吸音件設置在研磨外殼內，在所述吸音件上設置有吸音口，相鄰的所述吸音件之間的吸音口相錯設置，在所述吸音件和所述研磨外殼內填充有所述吸音棉。

所述研磨器皿采用陶瓷結構。

所述控制裝置包括壓力傳感器、壓力比較器和壓力控制裝置，所述壓力傳感器設置在所述研磨頭內，所述壓力比較器與所述壓力控制裝置設置在所述研磨外殼上，所述壓力比較器的輸入端與所述壓力傳感器相連，所述壓力比較器的輸出端與所述壓力控制裝置的輸入端相連，所述壓力控制裝置的輸出端與所述伸縮驅動相連。

所述研磨桿與所述研磨器皿之間的夾角為15-30°。

所述支撐架的高度為所述研磨外殼的高度的1/3-1/2。

所述轉動架高出所述研磨外殼的高度為15-30mm。

所述吸音口的弧度為20-40°。

相鄰的所述吸音件的吸音口交錯的弧度為5-10°。