[實(shí)用新型]一種連續(xù)式磁控濺射裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201721674593.5
• 申請(qǐng)日: 2017-12-05
• 公開（公告）號(hào): CN207646279U
• 公開（公告）日: 2018-07-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 毛華云;梁禮渭
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 江西金力永磁科技股份有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/35
• 分類號(hào): C23C14/35;C23C14/56
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 趙青朵

本實(shí)用新型提供了一種連續(xù)式磁控濺射裝置，包括含有真空腔室、磁控濺射腔室和冷卻腔室的磁控濺射爐；所述真空腔室設(shè)置在所述磁控濺射腔室的一側(cè)，所述真空腔室和磁控濺射腔室之間用第一可活動(dòng)裝置隔開；所述冷卻腔室設(shè)置在所述磁控濺射腔室的另一側(cè)，所述冷卻腔室和磁控濺射腔室之間用第二可活動(dòng)裝置隔開；所述真空腔室設(shè)置于所述磁控濺射爐的入口處，所述冷卻腔室設(shè)置于述磁控濺射爐的出口處。本實(shí)用新型提供了一種連續(xù)式磁控濺射裝置，具有連續(xù)的三個(gè)腔室，按工作順序分別為真空腔室、磁控濺射腔室、冷卻腔室。三個(gè)腔室之間以可活動(dòng)裝置隔開，各自工作，互不干擾，從而實(shí)現(xiàn)了生產(chǎn)連續(xù)性，減少抽真空和冷卻的等待時(shí)間，提高生產(chǎn)效率。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型屬于磁體制備技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種連續(xù)式磁控濺射裝置，尤其涉及一種用于釹鐵硼磁體鍍膜的連續(xù)式磁控濺射裝置。

背景技術(shù)

物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)技術(shù)表示在真空條件下，采用物理方法，將材料源--固體或液體表面氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子，并通過低壓氣體(或等離子體)過程，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)。物理氣相沉積的主要方法有，真空蒸鍍、濺射鍍膜、電弧等離子體鍍、離子鍍膜，及分子束外延等，發(fā)展到目前，物理氣相沉積技術(shù)不僅可沉積金屬膜、合金膜、還可以沉積化合物、陶瓷、半導(dǎo)體、聚合物膜等。

這其中，磁控濺射是近年來實(shí)現(xiàn)工業(yè)應(yīng)用過程中，利用率較多的一種，磁控濺射鍍膜是指在真空條件下，利用獲得功能的粒子轟擊靶材料表面，使靶材表面原子獲得足夠的能量而逃逸的過程。被濺射的靶材沉積到基材表面，就稱作濺射鍍膜。濺射鍍膜中的入射離子，一般采用輝光放電獲得，所以濺射出來的粒子在飛向基體過程中，易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞，使運(yùn)動(dòng)方向隨機(jī)，沉積的膜易于均勻。現(xiàn)有的規(guī)模性磁控濺射鍍膜，沉積速率較高，工藝重復(fù)性好，便于自動(dòng)化，且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，隨著不斷的研究，更是實(shí)現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。

現(xiàn)有的磁控濺射，主要是在陰極(靶材)和陽極之間(被鍍基體)施加正交的磁場和電場，真空狀態(tài)下，通入惰性氣體氬氣，使氬氣等離子化，并在磁場和電場的作用下，高速轟擊靶材，使靶材以離子或原子形式濺射至被鍍基體表面，形成致密的保護(hù)層。正是因?yàn)槠涑赡ぞ鶆颍Y(jié)合力良好，環(huán)保性好等優(yōu)點(diǎn)在表面防護(hù)領(lǐng)域得到廣泛的應(yīng)用，已適于進(jìn)行大型建筑裝飾鍍膜，及工業(yè)材料的功能性鍍膜。如專利號(hào)為CN105112873A的專利公布了一種磁控濺射裝置，該裝置包含一個(gè)磁控濺射腔室，腔室內(nèi)安裝有靶材和放置被鍍基體的底座，工作時(shí)靶材和基體底座分別作為陰極和陽極，同時(shí)靶材內(nèi)部裝有圓形磁鐵，提供與電場正交的磁場，通入氬氣后，即可轟擊靶材并濺射至基體表面，形成一層致密保護(hù)層。

但是在目前實(shí)際的應(yīng)用中，依然還存在諸多不理想的缺陷，尤其是在實(shí)際生產(chǎn)工序中，如磁體的鍍膜過程中，由于磁控濺射需在真空狀態(tài)下實(shí)現(xiàn)，所以目前通常的做法是，將被鍍基體置于爐內(nèi)，抽真空，鍍防護(hù)層，冷卻后開爐得到最終產(chǎn)品。該工藝需每爐抽真空，等待冷卻，非生產(chǎn)時(shí)間長，生產(chǎn)效率低。

因此，如何得到一種磁控濺射的裝置和方法，提高生產(chǎn)效果，已成為諸多生產(chǎn)企業(yè)和使用企業(yè)亟待解決的問題之一。

實(shí)用新型內(nèi)容

有鑒于此，本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題在于提供一種連續(xù)式磁控濺射裝置及連續(xù)式磁控濺射的方法，尤其是用于釹鐵硼磁體鍍膜的連續(xù)式磁控濺射裝置及方法，本實(shí)用新型的提供的連續(xù)式磁控濺射裝置能夠有效的實(shí)現(xiàn)鍍膜生產(chǎn)的連續(xù)性，減少抽真空和冷卻的等待時(shí)間，提高生產(chǎn)效率。

本實(shí)用新型提供了一種連續(xù)式磁控濺射裝置，包括含有真空腔室、磁控濺射腔室和冷卻腔室的磁控濺射爐；

所述真空腔室設(shè)置在所述磁控濺射腔室的一側(cè)，所述真空腔室和磁控濺射腔室之間用第一可活動(dòng)裝置隔開；

所述冷卻腔室設(shè)置在所述磁控濺射腔室的另一側(cè)，所述冷卻腔室和磁控濺射腔室之間用第二可活動(dòng)裝置隔開；