[實用新型]用于光學處理系統的光學頭

有效

• 申請號: 201721669059.5
• 申請日: 2017-03-03
• 公開（公告）號: CN208214578U
• 公開（公告）日: 2018-12-11
• 發明（設計）人: 奧代德·莫;約哈·馬納什;達恩·阿隆;馬克·羅賓·謝里登
• 申請（專利權）人: 奧寶科技有限公司
• 主分類號: B23K26/362
• 分類號: B23K26/362;B23K26/70
• 代理公司: 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287
• 代理人: 劉媛媛

本實用新型涉及用于光學處理系統的光學頭。該光學頭包括：照明結構，其用于對需要沉積的目標進行照明；相機，其用于獲取目標的至少一個圖像；可移動載臺，其經調適以用于載運供體元件，供體元件提供用于沉積的材料；激光器，其具有激光輸出，激光輸出至少照在供體元件上；可移除式光束擴展器，其用于調整激光輸出；及控制電路，其連接到相機、可移動載臺、激光器及可移除式光束擴展器以用于控制其操作。

本申請是申請號為201720203642.0、申請日為2017年3月3日、實用新型名稱為“用于光學處理系統的光學頭及底盤”的實用新型專利申請的分案申請。

技術領域

本實用新型一般來說涉及光學處理系統，且更明確地說，涉及光學沉積及/或燒蝕系統。

背景技術

此項技術中已知各種類型的光學沉積及燒蝕系統。

實用新型內容

本文中以下所描述的本實用新型的實施例提供一種用于在特定沉積或燒蝕系統中進行光學處理的系統，所述系統提供比現有技術系統更準確、可靠、經濟且容易的操作。

因此，根據本實用新型的一實施例，提供一種用于光學處理系統的底盤，所述底盤包含經調適以用于在其上放置需要沉積的目標的工作臺；及以下各項中的至少一者：(i)裝載站，其位于所述工作臺的前部上以用于在其處裝載供體元件，所述供體元件提供用于所述沉積的材料；及(ii)多個可調整銷，其沿著所述工作臺的外圍而定位且將所述目標圍住；以及處置箱，其經調適以用于在利用所述供體元件之后自動接納所述供體元件。

在本實用新型的一實施例中，所述工作臺包含具有第一延伸位置及第二縮回位置的真空工作臺，所述真空工作臺可在所述第一延伸位置與所述第二縮回位置之間滑動。

在本實用新型的一實施例中，所述多個可調整銷在所述真空工作臺處于所述第一延伸位置時呈經升高配置，且在所述真空工作臺沿著所述第一延伸位置與所述第二縮回位置之間的路徑時呈經降低配置。

在本實用新型的一實施例中，所述裝載站位于所述真空工作臺的前部部分上。

另外或另一選擇為，所述裝載站包含用于在其中插入所述供體元件的腔室以及用于將所述供體元件以磁性方式緊固在所述裝載站中的一組磁體。

此外，另外或另一選擇為，所述裝載站包含用于以光學方式檢測所述供體元件的至少一個光學傳感器。

另外或另一選擇為，所述處置箱在所述真空工作臺處于所述第一延伸位置時位于所述真空工作臺后方且在所述真空工作臺處于所述第二縮回位置時位于所述真空工作臺下方。

此外，另外或另一選擇為，所述處置箱還包含用于感測所述處置箱的存在及定位的傳感器。

此外，根據本實用新型的一實施例，所述底盤還包含位于所述工作臺上的大量校準元件。

在所揭示實施例中，所述底盤還可包含附接到所述工作臺的光學診斷設備。

此外，根據本實用新型的一實施例，工作臺包含具有第一及第二縱向邊緣以及第三及第四橫向邊緣的大體矩形上表面，其中所述第一到第四邊緣界定經調適以用于在其上放置所述目標的內作用區域。

另外或另一選擇為，多個可調整銷包含：第一組四個柱，其被定位成相對于所述第二縱向邊緣凹進且圍繞所述作用區域的前邊緣；及第二組四個柱，其被定位成相對于所述第四橫向邊緣凹進且圍繞所述作用區域的側邊。

此外，根據本實用新型的一實施例，所述裝載站位于所述表面的鄰近于所述第二縱向邊緣與所述第三橫向邊緣的交叉處的前拐角處，所述裝載站包含矩形元件，所述矩形元件具有由一組經升高邊緣限界的第一凹入部分及與所述第一凹入部分相連的第二凹入部分。