[實用新型]一種免去邊可鋼化低輻射鍍膜玻璃有效
| 申請號: | 201721656649.4 | 申請日: | 2017-12-02 |
| 公開(公告)號: | CN207596735U | 公開(公告)日: | 2018-07-10 |
| 發明(設計)人: | 樊義平 | 申請(專利權)人: | 青島錦繡前程節能玻璃有限公司 |
| 主分類號: | C03C17/36 | 分類號: | C03C17/36 |
| 代理公司: | 北京挺立專利事務所(普通合伙) 11265 | 代理人: | 賈楠楠 |
| 地址: | 266000 山東*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 低輻射鍍膜玻璃 本實用新型 氮化硅膜層 玻璃基體 金屬鈦膜 鋼化 氧化鋅膜層 氧化鋯膜層 厚度設置 膜層材料 生產效率 深加工 銀膜層 膜層 去邊 | ||
1.一種免去邊可鋼化低輻射鍍膜玻璃,包括玻璃基體,其特征在于:由玻璃基體向外依次包括:第一氮化硅膜層、氧化鋅膜層、第一金屬鈦膜層、銀膜層、第二金屬鈦膜層、第二氮化硅膜層、氧化鋯膜層。
2.根據權利要求1所述的一種免去邊可鋼化低輻射鍍膜玻璃,其特征在于:所述第一氮化硅膜層的厚度為30-40nm。
3.根據權利要求1所述的一種免去邊可鋼化低輻射鍍膜玻璃,其特征在于:所述氧化鋅膜層的厚度為10-20nm。
4.根據權利要求1所述的一種免去邊可鋼化低輻射鍍膜玻璃,其特征在于:所述第一金屬鈦膜層的厚度為8-15nm。
5.根據權利要求1所述的一種免去邊可鋼化低輻射鍍膜玻璃,其特征在于:所述銀膜層的厚度為10-15nm。
6.根據權利要求1所述的一種免去邊可鋼化低輻射鍍膜玻璃,其特征在于:所述第二金屬鈦膜層的厚度為8-15nm。
7.根據權利要求1所述的一種免去邊可鋼化低輻射鍍膜玻璃,其特征在于:所述第二氮化硅膜層的厚度為40-50nm。
8.根據權利要求1所述的一種免去邊可鋼化低輻射鍍膜玻璃,其特征在于:所述氧化鋯膜層的厚度為5-10nm。
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