[實(shí)用新型]一種可抹不同規(guī)格磚面的上漿機(jī)構(gòu)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201721645549.1
• 申請日: 2017-11-30
• 公開（公告）號: CN207538487U
• 公開（公告）日: 2018-06-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉昌臻;陳思鑫
• 申請（專利權(quán)）人: 廈門華蔚物聯(lián)網(wǎng)科技有限公司
• 主分類號: E04G21/20
• 分類號: E04G21/20
• 代理公司: 廈門智慧呈睿知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 35222
• 代理人: 郭福利;魏思凡

1.一種可抹不同規(guī)格磚面的上漿機(jī)構(gòu)，其特征在于：包括上漿盤、砂漿容置器、傳動件；所述上漿盤水平設(shè)置；所述砂漿容置器設(shè)置于所述上漿盤上方；所述上漿盤上開設(shè)有一上漿口；所述砂漿容置器可通過傳動件實(shí)現(xiàn)緊貼所述上漿盤上表面的往復(fù)運(yùn)動；所述上漿口的寬度與待上漿墻磚的磚面的寬度相等；所述上漿口的長度大于任意一種規(guī)格的待上漿墻磚的磚面；所述砂漿容置器在豎直方向上貫穿設(shè)置；所述砂漿容置器初始狀態(tài)時(shí)設(shè)置于所述上漿口長度方向上的一側(cè)，所述砂漿容置器內(nèi)可倒入砂漿，用于對放置于所述上漿口下方的待上漿墻磚的磚面進(jìn)行上漿。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可抹不同規(guī)格磚面的上漿機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述砂漿容置器在長度方向上的橫截面呈矩形；所述砂漿容置器在垂直于運(yùn)動方向上的寬度與所述上漿口的寬度相同。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可抹不同規(guī)格磚面的上漿機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述上漿口四周向下凸設(shè)有砂漿成型凸臺；所述砂漿成型凸臺與所述上漿口形成砂漿成型腔。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的可抹不同規(guī)格磚面的上漿機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述砂漿成型腔的橫截面的寬度在靠近砂漿容置器的方向上逐漸變小，呈上窄下寬的等腰梯形狀。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的可抹不同規(guī)格磚面的上漿機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述砂漿成型腔的底部長度比待上漿墻磚的磚面的長度小5mm￣10mm，寬度比待上漿墻磚的磚面的寬度小5mm￣10mm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可抹不同規(guī)格磚面的上漿機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述砂漿容置器上方進(jìn)一步設(shè)置有一延伸至砂漿容置器內(nèi)的攪拌單元。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可抹不同規(guī)格磚面的上漿機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述砂漿容置器側(cè)面上進(jìn)一步設(shè)置有一鏟平件，所述鏟平件向下傾斜設(shè)置用于刮平上漿后的墻磚表面的砂漿。

8.根據(jù)權(quán)利要求1￣7所述的任意一項(xiàng)可抹不同規(guī)格磚面的上漿機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述上漿盤長度方向上的兩側(cè)設(shè)有側(cè)壁；所述傳動件固定設(shè)置于所述側(cè)壁上。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的可抹不同規(guī)格磚面的上漿機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述傳動件通過絲桿傳動方式進(jìn)行傳動；所述傳動件包括絲桿、驅(qū)動電機(jī)、滑軌和滑塊；所述滑塊與所述滑軌相適配；所述滑塊套設(shè)于所述絲桿上并通過驅(qū)動電機(jī)實(shí)現(xiàn)往復(fù)運(yùn)動；所述滑塊與所述砂漿容置器側(cè)壁相固定連接。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的可抹不同規(guī)格磚面的上漿機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述的上漿盤一側(cè)設(shè)有砂漿回收機(jī)構(gòu)，所述砂漿回收機(jī)構(gòu)包括一設(shè)于上漿盤上的推板，所述推板上連接有使推板在上漿盤上往復(fù)運(yùn)動的氣壓缸；所述氣壓缸固定于所述上漿盤上。