[實(shí)用新型]常壓低溫等離子體處理種子設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201721644498.0 | 申請(qǐng)日: | 2017-12-01 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN207706501U | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-08-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 萬(wàn)良淏;戴陽(yáng) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 南京蘇曼等離子科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H05H1/24 | 分類號(hào): | H05H1/24 |
| 代理公司: | 南京源古知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32300 | 代理人: | 馬曉輝 |
| 地址: | 211178 江蘇省南*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 低溫等離子體處理 絕緣體介質(zhì) 低溫等離子體 基臺(tái) 金屬電極 四氟 常壓低溫等離子體 本實(shí)用新型 種子設(shè)備 支架 手柄 地線連接 高壓連接 基臺(tái)連接 支架固定 可控性 滑動(dòng) 側(cè)板 管內(nèi) 覆蓋 | ||
1.一種常壓低溫等離子體處理種子設(shè)備,包括低溫等離子體處理基臺(tái)(6)和低溫等離子體金屬電極,所述低溫等離子體處理基臺(tái)(6)和大地地線連接,所述的低溫等離子體金屬電極與高壓連接,其特征在于:所述低溫等離子體金屬電極設(shè)置在絕緣體介質(zhì)管(5)內(nèi),低溫等離子體處理基臺(tái)(6)上設(shè)有絕緣體介質(zhì)板(2),所述的絕緣體介質(zhì)板(2)覆蓋低溫等離子體處理基臺(tái)(6),所示絕緣體介質(zhì)管(5)通過(guò)四氟支架(3)固定,并使所述絕緣體介質(zhì)管(5)與所述低溫等離子體處理基臺(tái)(6)保持水平,所述四氟支架(3)上設(shè)有手柄(4),所述四氟支架(3)的兩端通過(guò)側(cè)板(7)和所述低溫等離子體處理基臺(tái)(6)連接,并能夠在絕緣體介質(zhì)板(2)上平穩(wěn)滑動(dòng)。
2.如權(quán)利要求1所述的常壓低溫等離子體處理種子設(shè)備,其特征在于:設(shè)有一電源控制開(kāi)關(guān)(8)在手柄(4)上。
3.如權(quán)利要求1或2所述的常壓低溫等離子體處理種子設(shè)備,其特征在于:所述手柄(4)和四氟支架(3)為螺紋連接。
4.如權(quán)利要求1或2所述的常壓低溫等離子體處理種子設(shè)備,其特征在于:所述絕緣體介質(zhì)管(5)為剛玉管,表面具有稀土涂層。
5.如權(quán)利要求1或2所述的常壓低溫等離子體處理種子設(shè)備,其特征在于:所述的絕緣體介質(zhì)板(2)為剛玉陶瓷板或石英板。
6.如權(quán)利要求1或2所述的常壓低溫等離子體處理種子設(shè)備,其特征在于:所述低溫等離子體處理基臺(tái)(6)由不銹鋼做成。
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