[實用新型]一種用于γ輻照裝置源架的保護機構

有效

• 申請號: 201721639638.5
• 申請日: 2017-11-30
• 公開（公告）號: CN208045115U
• 公開（公告）日: 2018-11-02
• 發明（設計）人: 陳強;董凱豐;許源;王建中;肖海亮
• 申請（專利權）人: 上海金鵬源輻照技術有限公司
• 主分類號: G21K5/00
• 分類號: G21K5/00
• 代理公司: 上海世圓知識產權代理有限公司 31320
• 代理人: 王佳妮

本實用新型涉及一種用于γ輻照裝置源架的保護機構，保護機構包括一支架,所述的支架包括立柱和防撞桿,支架的兩側分別設有防撞開關組件；支架上設有上、下兩層輻照容器，上、下輻照容器分別設有對應的上、下層限位輪。立柱和防撞桿圍合成為一個保護空間，可以有效保證輻照容器對于源架的接觸和碰撞，避免卡源事故的發生；支架的左右兩端各設置一套防撞開關組件，用于對輻照容器在超出正常行進位時進行提醒并報警，給予操作人員足夠的時間排除安全隱患。

技術領域

本實用新型涉及工業輻照裝置的技術領域，具體地說是一種用于γ輻照裝置源架的保護機構。

背景技術

γ輻照裝置主要由放射源系統、輻照室、屏蔽防護和安全聯鎖系統組成，其中，放射源系統是輻照裝置的核心，其包含放射源、源架及其升降系統。輻照裝置工作時，通過源架升降系統將處于貯存位的源架提升至工作位，進行輻照。輻照裝置處于工作狀態時，當安全聯鎖系統觸發時，源架會即刻降落回貯存位。在輻照生產運行中，裝載產品的輻照容器通過過源機構從放射源架兩側通過，在產品從放射源兩側通過時，存在意外故障可能使輻照容器對源架造成接觸或碰撞，導致源架不能及時、安全地降落回貯存位，造成卡源事故。因此，如何防止輻照容器在意外故障中對源架造成接觸或碰到，保持放射源始終處于安全、正常的狀態下，是保證輻照裝置生產運行安全的重要因素。

目前，通過在源架升降系統上安裝導向限位機構控制源架升降位置的穩定，在過源通道的兩側安裝導向限位輪對輻照容器在運行中的晃動加以限制。但這些措施并不能防止出現意外故障時輻照容器對源架的接觸或碰撞，因此，必須采取預防性的措施，能夠消除在出現意外故障時輻照容器對源架的接觸或碰撞，保證源架的安全。

發明內容

本實用新型的目的在于提供一種改進的用于γ輻照裝置源架的保護機構，通過設置立柱和防撞桿，可以消除輻照容器對于源架可能造成的解除或者觸碰，保證源架的安全。

為了實現上述目的，本實用新型的技術方案是：一種用于γ輻照裝置源架的保護機構，所述的保護機構設置于輻照室內，保護機構用于保護源架,其與現有技術的區別在于：所述保護機構包括一支架,所述的支架包括立柱和防撞桿,支架的兩側分別設有防撞開關組件；支架上設有上、下兩層輻照容器，上、下輻照容器分別設有對應的上、下層限位輪。

優選的，所述的支架包括兩根槽鋼立柱，兩根平行的槽鋼立柱之間設置排列有多根防撞桿，兩根平行的槽鋼立柱的外側分別設有一防撞開關組件，所述的兩根槽鋼立柱分別設置在源架的左、右側端，多根防撞桿兩兩對稱設置在源架的前、后側端。

進一步，兩根槽鋼立柱之間從上至下設置有至少8根平行設置的防撞桿，8根防撞桿分別設置于上部、中部和下部，其中中部設有4根防撞桿，上、下部分別設有2根防撞桿，上部的防撞桿高度低于上層輻照容器的高度，下部的防撞桿高度高于下層輻照容器的高度。

進一步，輻照室的頂部設有頂棚，所述的槽鋼立柱頂部與頂棚固定連接，槽鋼立柱的底部與輻照室的地面固定連接。

進一步，所述的支架上設有兩個平行設置的上層輻照容器和兩個與上層輻照容器對應設置的下層輻照容器，上層限位輪設置于上層輻照容器的頂部，每一個上層輻照容器的頂部設有對應的兩個上層限位輪，兩個對應的上層限位輪之間的距離大于上層輻照容器的寬度；

每一個下層輻照容器的底部設有兩個對應設置的下層限位輪，兩個對應的下層限位輪之間的距離大于下層輻照容器的寬度。

更進一步，下層限位輪的輪體直徑大于上層限位輪的輪體直徑，所述的上層輻照容器和下層輻照容器分別沿著支架對稱設置。

相對于現有技術，本實用新型的技術方案除了整體技術方案的改進，還包括很多細節方面的改進，具體而言，具有以下有益效果：

1、本實用新型所述的改進方案，設有支架用于保護源架，該種支架包括立柱和防撞桿，立柱和防撞桿圍合成為一個保護空間，可以有效保證輻照容器對于源架的接觸和碰撞，避免卡源事故的發生；