[實(shí)用新型]基板處理裝置的藥液管理系統(tǒng)、費(fèi)用的計(jì)算系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201721635744.6 | 申請(qǐng)日: | 2017-11-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN207516724U | 公開(公告)日: | 2018-06-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 中川俊元 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社平間理化研究所 |
| 主分類號(hào): | G03F7/30 | 分類號(hào): | G03F7/30 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 王婷 |
| 地址: | 日本國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基板處理裝置 藥液管理 流量計(jì) 新液 費(fèi)用計(jì)算系統(tǒng) 本實(shí)用新型 測(cè)定基板 處理裝置 調(diào)制裝置 基板制造 計(jì)算系統(tǒng) 累計(jì)流量 濃度管理 再生裝置 補(bǔ)充液 再生液 計(jì)測(cè) 配管 原液 調(diào)制 再生 配備 補(bǔ)充 網(wǎng)絡(luò) 服務(wù) 管理 | ||
本實(shí)用新型提供最適于將基板制造所使用的藥液管理為最佳狀態(tài)的服務(wù)的基板處理裝置的藥液管理系統(tǒng)及基板處理裝置的藥液管理費(fèi)用計(jì)算系統(tǒng)。在基板處理裝置的藥液管理系統(tǒng)中,通過配備有累計(jì)流量計(jì)的配管將基板處理裝置與調(diào)制藥液的新液的藥液調(diào)制裝置、對(duì)使用后的藥液進(jìn)行再生的藥液再生裝置等連接。濃度管理裝置測(cè)定基板處理裝置的藥液的濃度,補(bǔ)充藥液的原液或新液、再生液,將藥液始終管理為最佳的濃度。所供給的補(bǔ)充液的累計(jì)流量由累計(jì)流量計(jì)來計(jì)測(cè)。累計(jì)流量計(jì)與網(wǎng)絡(luò)直接連接。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及使用在半導(dǎo)體或者液晶顯示器基板的制造工序中反復(fù)使用的各種藥液對(duì)基板進(jìn)行處理的基板處理裝置的藥液管理系統(tǒng)、及基板處理裝置的藥液管理費(fèi)用計(jì)算系統(tǒng)。
背景技術(shù)
在半導(dǎo)體或者液晶顯示器基板的制造工序中,例如,使用有顯影液、蝕刻液、剝離液、防帶電劑、清洗液等各種藥液。這些藥液(以下,在無(wú)需具體區(qū)別這些藥液的情況下將這些藥液統(tǒng)一稱作“藥液”。)被維持管理為根據(jù)需要的規(guī)定的濃度而使用,以便使其性能最大限度地發(fā)揮作用。藥液的濃度管理通過藥液的濃度的監(jiān)視和基于測(cè)定出的濃度進(jìn)行的補(bǔ)充液的補(bǔ)給來完成。作為所補(bǔ)給的補(bǔ)充液,除了藥液的原液、純水之外,還使用新調(diào)制出的藥液(以下也稱作“新液”。)、再生處理為能夠再利用的藥液(以下也稱作“再生液”。)等。
以往,使用藥液對(duì)基板進(jìn)行處理的人(以下有時(shí)稱作“基板制造者”。)為了維持管理藥液的濃度而購(gòu)入并使用藥液的濃度管理裝置?;逯圃煺弑仨氄{(diào)配藥液的原液、新液等來作為為了管理藥液的濃度而補(bǔ)給的補(bǔ)充液。在由基板制造者自身調(diào)制藥液的新液時(shí),基板制造者必須購(gòu)入用其原料自動(dòng)地對(duì)藥液進(jìn)行調(diào)制的藥液調(diào)制裝置并運(yùn)用該藥液調(diào)制裝置。另外,在由基板制造者自身準(zhǔn)備再生液時(shí),基板制造者必須購(gòu)入將使用后的藥液再生處理為能夠再利用的藥液的再生處理裝置。
作為藥液的濃度管理裝置,例如公開有以下的專利文獻(xiàn)。在專利文獻(xiàn)1中,公開有對(duì)顯影液的堿濃度和溶解樹脂濃度進(jìn)行管理的顯影液濃度管理裝置。另外,在專利文獻(xiàn)2中,公開有對(duì)酸濃度和溶解銦濃度進(jìn)行管理的蝕刻液管理裝置。作為藥液的再生處理裝置,例如,在專利文獻(xiàn)3中,公開有通過精密過濾而使顯影廢液再生的顯影廢液的再生處理裝置。
在先技術(shù)文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)1:日本專利第2561578號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)2:日本專利第2747647號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)3:日本特開2005-175118號(hào)公報(bào)
然而,在像以往那樣購(gòu)入并使用濃度管理裝置、藥液調(diào)制裝置、藥液再生裝置的方式中,基板制造者需要購(gòu)入濃度管理裝置、藥液再生裝置,使這些裝置運(yùn)轉(zhuǎn)并進(jìn)行維持管理。另外,在以往的方式中,對(duì)于制造銷售濃度管理裝置、藥液調(diào)制裝置、藥液再生裝置的人(以下有時(shí)稱作“裝置銷售者”。)而言,也只有在裝置銷售時(shí)點(diǎn)才有獲得這些裝置的回報(bào)的機(jī)會(huì)。
因此,基板制造者必須承擔(dān)用于購(gòu)入濃度管理裝置、藥液調(diào)制裝置、藥液再生裝置的暫時(shí)的巨額費(fèi)用負(fù)擔(dān)、和購(gòu)入后的運(yùn)轉(zhuǎn)及維持管理所涉及的各種精力、負(fù)擔(dān)。另外,還存在如下問題:裝置銷售者若不在有限的市場(chǎng)之中屢次找尋希望購(gòu)入裝置的基板制造者并銷售裝置,則難以賺取足夠的利益。
實(shí)用新型內(nèi)容
實(shí)用新型要解決的課題
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
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