[實用新型]非接觸式點光源成像測量反射面位置的裝置

有效

• 申請號: 201721630983.2
• 申請日: 2017-11-29
• 公開（公告）號: CN207622690U
• 公開（公告）日: 2018-07-17
• 發明（設計）人: 孫宏
• 申請（專利權）人: 福州銳景達光電科技有限公司
• 主分類號: G01B11/00
• 分類號: G01B11/00;G01B11/02
• 代理公司: 福州市眾韜專利代理事務所(普通合伙) 35220
• 代理人: 王旭;王良財

1.一種非接觸式點光源成像測量反射面位置的裝置，其特征在于：包括機架(1)、設置于機架(1)上的用于放置被測物體(2)的基準面(3)、滑動連接于機架(1)上且可在靠近或遠離基準面(3)的方向上移動的傳感器組件(4)以及設置于機架(1)上且位于基準面(3)和傳感器組件(4)之間的用于獲取傳感器組件(4)相對基準面(3)位置信息的位移傳感器(5)；所述傳感器組件(4)包括沿光線入射方向依次設置于第一光軸(41)上的點光源(42)、半透半反鏡(43)、凸透鏡一(44)以及設置于第二光軸(45)上的用于獲取經被測物體(2)的被測反射面(21)和半透半反鏡(43)反射后光線的圖像傳感器(46)；所述第一光軸(41)與基準面(3)垂直，第一光軸(41)和第二光軸(45)呈設定的夾角設置；所述點光源(42)位于凸透鏡一(44)的焦點上，所述圖像傳感器(46)與第二光軸(45)的交點和點光源(42)與第一光軸(41)的交點以半透半反鏡(43)為對稱面對稱設置，所述半透半反鏡(43)位于第一光軸(41)和第二光軸(45)的角平分線上使得經被測反射面(21)反射后的光線能經半透半反鏡(43)偏折到第二光軸(45)。

2.根據權利要求1所述的非接觸式點光源成像測量反射面位置的裝置，其特征在于：所述圖像傳感器(46)采用面陣圖像傳感器，所述點光源(42)采用單色點光源。

3.根據權利要求1所述的非接觸式點光源成像測量反射面位置的裝置，其特征在于：所述位移傳感器(5)為設置于機架(1)上且位于基準面(3)和傳感器組件(4)之間的光柵尺。

4.根據權利要求1所述的非接觸式點光源成像測量反射面位置的裝置，其特征在于：所述半透半反鏡(43)與第一光軸(41)和第二光軸(45)均呈45°夾角。

5.一種非接觸式點光源成像測量反射面位置的裝置，其特征在于：包括機架(1′)、設置于機架(1′)上的用于放置被測物體(2′)的基準面(3′)、滑動連接于機架(1′)上且可在靠近或遠離基準面(3′)的方向上移動的傳感器組件(4′)以及設置于機架(1′)上且位于基準面(3′)和傳感器組件(4′)之間的用于獲取傳感器組件(4′)位置信息的位移傳感器(5′)；所述傳感器組件(4′)包括沿光線入射方向依次設置于第一光軸(41′)上的點光源(42′)、凸透鏡二(47′)、半透半反鏡(43′)、凸透鏡一(44′)以及沿光線入射方向依次設置于第二光軸(45′)上的凸透鏡三(48′)和圖像傳感器(46′)，所述第一光軸(41′)與基準面(3′)垂直，所述點光源(42′)位于凸透鏡二(47′)的焦點上，所述圖像傳感器(46′)位于凸透鏡三(48′)的焦平面上，所述第一光軸(41′)和第二光軸(45’)呈設定的夾角設置，所述半透半反鏡(43′)位于第一光軸(41’)和第二光軸(45’)的角平分線上使得經被測反射面(21’)反射后的光線能經半透半反鏡(43’)偏折到第二光軸(45’)。

6.根據權利要求5所述的非接觸式點光源成像測量反射面位置的裝置，其特征在于：所述圖像傳感器(46’)采用面陣圖像傳感器，所述點光源(42’)采用單色點光源。

7.根據權利要求5所述的非接觸式點光源成像測量反射面位置的裝置，其特征在于：所述位移傳感器(5’)為設置于機架(1’)和傳感器組件(4’)之間的光柵尺。

8.根據權利要求5所述的非接觸式點光源成像測量反射面位置的裝置，其特征在于：所述半透半反鏡(43’)與第一光軸(41’)和第二光軸(45’)均呈45°夾角。