[實(shí)用新型]一種五行排補(bǔ)水針灸足浴盆

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201721626279.X
• 申請日: 2017-11-28
• 公開（公告）號: CN208372115U
• 公開（公告）日: 2019-01-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 盛后華
• 申請（專利權(quán)）人: 盛后華
• 主分類號: A61H33/02
• 分類號: A61H33/02;A61H9/00;A61N1/36;A61H39/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種五行排補(bǔ)水針灸足浴盆，包括底座(1)和盆體(2)，所述底座(1)上設(shè)置有控制器(5)，所述盆體(2)的盆腔底部安裝有電脈沖刺激電極(22)，所述盆體(2)底部的兩側(cè)均安裝有中頻脈沖電針灸發(fā)生器(221)，所述控制器(5)包括安裝有用于控制中頻脈沖電針灸發(fā)生器(221)以產(chǎn)生并輸出電脈沖刺激的控制模塊一(51)，其特征是：所述底座(1)和盆體(2)之間安裝有均與控制器(5)電連接的負(fù)離子發(fā)生裝置和高氧水發(fā)生裝置，所述高氧水發(fā)生裝置包括微型制氧器(3)和與微型制氧器(3)的出氧口密封連接的硅膠管(32)，所述硅膠管(32)遠(yuǎn)離微型制氧器(3)的一端連通有膜片曝氣器(31)，所述膜片曝氣器(31)位于盆體(2)內(nèi)部，所述硅膠管(32)位于膜片曝氣器(31)和微型制氧器(3)之間連通有第一氣泵(33)，所述控制器(5)包括用于控制第一氣泵(33)的控制模塊二(52)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種五行排補(bǔ)水針灸足浴盆，其特征是：所述盆體(2)上設(shè)置有通孔(23)，所述盆體(2)位于通孔(23)周緣朝向底座(1)的一側(cè)一體設(shè)置有套管(231)，所述硅膠管(32)緊密套設(shè)并固定連接在套管(231)上，所述套管(231)的外壁上環(huán)繞設(shè)置有多個(gè)凸環(huán)(2311)和凹槽(2312)，所述凸環(huán)(2311)和凹槽(2312)交錯(cuò)平行設(shè)置。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種五行排補(bǔ)水針灸足浴盆，其特征是：所述膜片曝氣器(31)可拆卸安裝于盆體(2)上。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種五行排補(bǔ)水針灸足浴盆，其特征是：所述膜片曝氣器(31)包括用于產(chǎn)生小氣泡的曝氣膜片(311)、用于固定曝氣膜片(311)的支撐托架(312)和用于與盆體(2)連接的曝氣頭接頭(313)，所述曝氣頭接頭(313)為中空管狀，所述曝氣頭接頭(313)伸入通孔(23)內(nèi)并與盆體(2)螺紋連接。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種五行排補(bǔ)水針灸足浴盆，其特征是：所述負(fù)離子發(fā)生裝置包括負(fù)離子發(fā)生器(4)、氣管(41)和第二氣泵(42)，所述氣管(41)一端連接于負(fù)離子發(fā)生器(4)的出口，另一端連通有噴嘴(43)，所述噴嘴(43)安裝于盆體(2)上，所述第二氣泵(42)連通于負(fù)離子發(fā)生器(4)和噴嘴(43)之間的氣管(41)上。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種五行排補(bǔ)水針灸足浴盆，其特征是：所述負(fù)離子發(fā)生裝置包括負(fù)離子發(fā)生器(4)和連通于負(fù)離子發(fā)生器(4)出氣口的氣管(41)，所述氣管(41)背離負(fù)離子發(fā)生器(4)的一端連通于硅膠管(32)上。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種五行排補(bǔ)水針灸足浴盆，其特征是：所述盆體(2)向背離底座(1)的一側(cè)延伸設(shè)置有用于分隔左右水域的分隔部(21)，所述分隔部(21)的高度低于正常足浴時(shí)的水位線，所述曝氣頭接頭(313)和噴嘴(43)均安裝于分隔部(21)上。