[實用新型]一種高分子納米技術的集垢設備

有效

• 申請號: 201721623601.3
• 申請日: 2017-11-28
• 公開（公告）號: CN207760120U
• 公開（公告）日: 2018-08-24
• 發明（設計）人: 孫玉龍;崔玉發;徐云霞
• 申請（專利權）人: 安徽阿爾發環境工程有限公司
• 主分類號: C02F5/00
• 分類號: C02F5/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種高分子納米技術的集垢設備，包括桶體(1)，所述桶體(1)的兩側分別連通有進水口(2)和出水口(3)，所述桶體(1)的內側設有插板(4)，所述插板(4)的兩側分別為左腔室(5)和右腔室(6)，所述插板(4)和桶體(1)內部均安裝有若干孔板支架(7)，所述孔板支架(7)上安裝有孔板(8)，其特征在于，所述孔板(8)一側設有噴淋管(9)和抽水管(10)，所述噴淋管(9)上連通有噴頭(11)，所述桶體(1)的外側安裝有U型進水管(12)和U型排污管(13)，所述噴淋管(9)與U型進水管(12)之間均連通有進水控制閥(14)，所述U型排污管(13)與抽水管(10)之間均連通有排污控制閥(15)。

2.根據權利要求1所述的一種高分子納米技術的集垢設備，其特征在于：所述U型進水管(12)和U型排污管(13)的兩端均為封堵結構。

3.根據權利要求1所述的一種高分子納米技術的集垢設備，其特征在于：所述U型進水管(12)的中部連通有進水法蘭管(16)。

4.根據權利要求1所述的一種高分子納米技術的集垢設備，其特征在于：所述U型排污管(13)的中部連通通有排污法蘭管(17)。

5.根據權利要求1所述的一種高分子納米技術的集垢設備，其特征在于：位于左腔室(5)的噴頭(11)噴射方向垂直向上并朝向孔板(8)，位于右腔室(6)的噴頭(11)噴射方向垂直向下并朝向孔板(8)。

6.根據權利要求1所述的一種高分子納米技術的集垢設備，其特征在于：位于左腔室(5)的抽水管(10)設有若干開口向下的抽水口(18)，位于右腔室(6)的抽水管(10)設有若干開口向上的抽水口(18)。