[實(shí)用新型]一種陣列式發(fā)射率參考物有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201721620946.3 | 申請(qǐng)日： | 2017-11-27 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN207472430U | 公開（公告）日： | 2018-06-08 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 王瀟楠;李文軍 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 中國(guó)計(jì)量大學(xué) |
| 主分類號(hào)： | G01J5/52 | 分類號(hào)： | G01J5/52 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 310018 浙江省杭州市*** | 國(guó)省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 發(fā)射率 參考物 陣列式 長(zhǎng)方體金屬 本實(shí)用新型 表面單元 對(duì)稱線 矩形槽 矩形翅 可選的 工作溫度區(qū)間 對(duì)稱式結(jié)構(gòu) 基底上表面 參考樣品 紅外測(cè)溫 基底表面 標(biāo)定 基底 溫場(chǎng) | ||
1.一種陣列式發(fā)射率參考物，包括長(zhǎng)方體金屬基底(1)，矩形槽(2)，矩形翅(3)，對(duì)稱線(4)，其特征在于：所述長(zhǎng)方體金屬基底(1)上表面存在一系列矩形槽(2)和矩形翅(3)，在長(zhǎng)方體金屬基底(1)表面存在一根對(duì)稱線(4)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種陣列式發(fā)射率參考物，其特征在于：所述長(zhǎng)方體金屬基底(1)作為基底，長(zhǎng)寬高約為70mm×30mm×20mm，長(zhǎng)方體金屬基底(1)整體為對(duì)稱型結(jié)構(gòu)，長(zhǎng)方體金屬基底(1)采用純鋁制金屬材料。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種陣列式發(fā)射率參考物，其特征在于：所述矩形槽(2)由在長(zhǎng)方體金屬基底(1)上表面切割后切除的空間形成，矩形槽(2)深度以對(duì)稱線(4)為中心往兩側(cè)均勻依次遞增，矩形槽(2)以對(duì)稱線(4)為軸左右對(duì)稱。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種陣列式發(fā)射率參考物，其特征在于：所述矩形翅(3)由在長(zhǎng)方體金屬基底(1)上表面切割后未被切除的部分形成，矩形翅(3)深度以對(duì)稱線(4)為中心往兩側(cè)均勻依次遞增，矩形翅(3)以對(duì)稱線(4)為軸左右對(duì)稱，矩形槽(2)和矩形翅(3)的在長(zhǎng)方體金屬基底(1)上表面的寬度比為1∶3。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種陣列式發(fā)射率參考物，其特征在于：所述對(duì)稱線(4)在長(zhǎng)方體金屬基底(1)表面，對(duì)稱線(4)平行于矩形槽(2)且為長(zhǎng)方體金屬基底(1)的對(duì)稱軸。
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