[實用新型]一種小型真空磁控三靶濺射鍍鏌機

有效

• 申請號: 201721619812.X
• 申請日: 2017-11-29
• 公開（公告）號: CN207498461U
• 公開（公告）日: 2018-06-15
• 發明（設計）人: 李雙江;董順;曹崇友
• 申請（專利權）人: 沈陽鵬程真空技術有限責任公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/54
• 代理公司: 沈陽技聯專利代理有限公司 21205
• 代理人: 張志剛

1.一種小型真空磁控三靶濺射鍍鏌機，其特征在于，所述鍍鏌機包括有真空室、支撐真空室的機臺、置于機臺內部的電器控制系統及真空室的上蓋、均布于上蓋上的三個磁控靶，上蓋上連接有兩支氣壓支撐桿，真空室后面設有抽氣管，抽氣管中設有節流閥，抽氣管的后端通過氣動插板閥與分子泵相接，分子泵的排氣口通過波紋管連接于機械泵；真空室上蓋上面均布三只磁控靶，每只靶頭上，均設有獨立的擋板機構；真空室前面設有玻璃觀察窗；真空室右面，設有輔助照明的引入接口；真空室底部中心位置設有可以加熱、旋轉的樣品臺；真空室底部四周分部有真空規接入口、預抽氣口、兩路氣體充入口；旋轉加熱樣品臺內部安裝鎧裝加熱盤，旋轉加熱樣品臺的四周設有一塊環形防塵板，旋轉加熱樣品臺上鑲嵌一個被動大齒輪、嚙合一個主動小齒輪，磁流體密封軸上通過聯軸器連接步進電機，支撐真空室的機臺上設有觸摸屏及一套電控系統，底部設有移動地腳。

2.根據權利要求1所述的一種小型真空磁控三靶濺射鍍鏌機，其特征在于，所述真空室后面抽氣口上設有節流閥、氣動插板閥并連接分子泵。

3.根據權利要求2所述的一種小型真空磁控三靶濺射鍍鏌機，其特征在于，所述分子泵的排氣口通過截止閥和波紋管接入機械泵。

4.根據權利要求1所述的一種小型真空磁控三靶濺射鍍鏌機，其特征在于，所述主動小齒輪鑲嵌在磁流體密封軸上。