[實用新型]一種離子植入機及其氣體冷卻監(jiān)控系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201721615606.1
• 申請日: 2017-11-28
• 公開（公告）號: CN207503930U
• 公開（公告）日: 2018-06-15
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 石志平;洪紀(jì)倫;倪明明;吳宗祐;林宗賢
• 申請（專利權(quán)）人: 德淮半導(dǎo)體有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/265
• 代理公司: 上海光華專利事務(wù)所(普通合伙) 31219
• 代理人: 余明偉

1.一種離子植入機，其特征在于，所述離子植入機至少包括：

反應(yīng)腔室，設(shè)置于所述反應(yīng)腔室內(nèi)的冷卻臺，所述冷卻臺通過設(shè)置于所述冷卻臺底部的冷氣管路與供氣裝置連接，所述冷氣管路上設(shè)置有第一單向閥，所述第一單向閥與所述冷卻臺之間的冷氣管路上連接有真空計。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子植入機，其特征在于：所述冷卻臺的底部設(shè)置有冷氣管路連接口，所述冷卻臺的上表面設(shè)置有出氣口，所述冷氣管路連接口與所述出氣口通過所述冷卻臺內(nèi)部的氣體通路連接。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的離子植入機，其特征在于：所述冷卻臺為圓形結(jié)構(gòu)，所述出氣口設(shè)置于所述冷氣臺上表面的外側(cè)圓周上。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子植入機，其特征在于：所述第一單向閥與所述供氣裝置之間設(shè)置有一三通閥；所述三通閥分別連接所述單向閥、所述供氣裝置及一排氣裝置，所述排氣裝置與所述三通閥之間的排氣管路上設(shè)置有第二單向閥。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子植入機，其特征在于：所述供氣裝置的輸出端設(shè)置有流量控制裝置。

6.一種離子植入機的氣體冷卻監(jiān)控系統(tǒng)，其特征在于，所述離子植入機的氣體冷卻監(jiān)控系統(tǒng)至少包括：

如權(quán)利要求1～5任意一項所述的離子植入機；

連接于所述離子植入機的數(shù)據(jù)采集模塊；

從所述數(shù)據(jù)采集模塊獲取所述離子植入機的工作數(shù)據(jù)，并根據(jù)工作數(shù)據(jù)對所述離子植入機進(jìn)行控制的數(shù)據(jù)監(jiān)測控制模塊。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的離子植入機的氣體冷卻監(jiān)控系統(tǒng)，其特征在于：所述數(shù)據(jù)采集模塊連接所述離子植入機中各閥門、真空計及流量控制裝置中的一個或幾個。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的離子植入機的氣體冷卻監(jiān)控系統(tǒng)，其特征在于：所述數(shù)據(jù)采集模塊還連接一直觀顯示監(jiān)控數(shù)據(jù)的監(jiān)控屏幕。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的離子植入機的氣體冷卻監(jiān)控系統(tǒng)，其特征在于：所述數(shù)據(jù)采集模塊與所述數(shù)據(jù)監(jiān)測控制模塊之間還設(shè)置有對所有機臺數(shù)據(jù)進(jìn)行管理的IT數(shù)據(jù)中心。