[實用新型]一種高效、高均勻性被動光束勻光整形照明系統有效
| 申請號： | 201721592256.1 | 申請日： | 2017-11-24 |
| 公開（公告）號： | CN207408730U | 公開（公告）日： | 2018-05-25 |
| 發明（設計）人： | 尹亞鐵;王亮;王建華 | 申請（專利權）人： | 北京速鐳視激光科技有限公司 |
| 主分類號： | G03B21/20 | 分類號： | G03B21/20;G02B27/09 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 100023 北京市大興區北京經濟*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 積分器件 高均勻性 衍射光學元件 本實用新型 光束勻光 照明系統 整形 方棒 擴束 六棱 勻光 光源 半導體激光器陣列 半導體激光器 激光投影顯示 矩形照明光斑 投影顯示系統 光斑 光束整形 正六邊形 | ||
【權利要求書】：
1.一種高效、高均勻性被動光束勻光整形照明系統，其特征在于：包括半導體激光器陣列模塊（101），衍射光學元件（102），六棱棒積分器件（103）、方棒積分器件（104）；所述衍射光學元件（102）設置在半導體激光器陣列模塊（101）與六棱棒積分器件（103）之間，所述六棱棒積分器件（103）設置在衍射光學元件（102）與方棒積分器件（104）之間。
2.根據權利要求1所述的一種高效、高均勻性被動光束勻光整形照明系統，其特征在于：所述半導體激光器陣列模塊（101）中的各半導體激光器采用緊密排列方式，排成正六邊形、四邊形或者正三角形，構成初始光源。
3.根據權利要求2所述的一種高效、高均勻性被動光束勻光整形照明系統，其特征在于：所述半導體激光器數量為3n
4.根據權利要求1所述的一種高效、高均勻性被動光束勻光整形照明系統，其特征在于：所述半導體激光器陣列模塊（101）后插入衍射光學元件（102），對半導體激光器發出的光束進行擴束。
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