[實用新型]一種控制光刻膠濺射的涂膠機系統

有效

• 申請號: 201721591639.7
• 申請日: 2017-11-24
• 公開（公告）號: CN207488701U
• 公開（公告）日: 2018-06-12
• 發明（設計）人: 孫丞;李青民
• 申請（專利權）人: 西安立芯光電科技有限公司
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16;H01L21/67
• 代理公司: 西安智邦專利商標代理有限公司 61211
• 代理人: 胡樂

1.一種控制光刻膠濺射的涂膠機系統，包括涂膠機腔體和設置于涂膠機內腔的載片臺以及晶圓；其特征在于：涂膠機腔體的豎直方向設置有抽氣系統，涂膠機內腔的側壁在高度方向上對應于晶圓及其以上的區域向內傾斜，使得光刻膠微粒濺射的主要方向改為向下濺射，涂膠機腔體的側壁頂端向腔體軸心延展形成導流護板，整體形成從頂端中心向兩側下行的氣流導向，使得從晶圓表面甩出的光刻膠微粒被抽氣系統帶走。

2.根據權利要求1所述的控制光刻膠濺射的涂膠機系統，其特征在于：所述抽氣系統包括設置于涂膠機腔體底部的抽氣裝置和設置于涂膠機腔體上方的進氣裝置，產生自上而下的氣流，以迅速抽走含有光刻膠微粒的空氣。

3.根據權利要求1所述的控制光刻膠濺射的涂膠機系統，其特征在于：所述向內傾斜的傾斜角度為45度至60度。

4.根據權利要求1所述的控制光刻膠濺射的涂膠機系統，其特征在于：所述導流護板的內徑比晶圓大30mm～50mm。

5.根據權利要求2所述的控制光刻膠濺射的涂膠機系統，其特征在于：涂膠機內腔靠近底面設置有導流板，導流板一端接設置于涂膠機腔體底部的抽氣孔，另一端向涂膠機內腔側壁方向水平延伸，形成涂膠機內腔下部的風道。