[實用新型]一種氦氖激光器模式分析實驗裝置

有效

• 申請號: 201721586277.2
• 申請日: 2017-11-23
• 公開（公告）號: CN207703449U
• 公開（公告）日: 2018-08-07
• 發明（設計）人: 王傳龍;馬學勇;王玉興
• 申請（專利權）人: 伊普希龍（天津）科技有限公司
• 主分類號: G01M11/00
• 分類號: G01M11/00
• 代理公司: 天津市新天方有限責任專利代理事務所 12104
• 代理人: 趙棕林

1.一種氦氖激光器模式分析實驗裝置，其特征在于：包括實驗平臺(1)，所述實驗平臺(1)上設有光學導軌(2)，所述光學導軌(2)上設有若干個與其相配合的滑動座(3)，所述滑動座(3)上依次設有CMOS相機(4)、氦氖激光器(5)、可變光闌(6)、共焦球面干涉儀(7)、準直鏡(8)、探測器(9)，所述氦氖激光器(5)的下方設有溫度傳感器(10)，所述實驗平臺(1)的內部設有鋸齒波發生器、直流偏置電源和控制器，所述實驗平臺(1)上設有開關(11)和調節鈕(12)，所述溫度傳感器(10)通過電線與控制器、開關(11)、調節鈕(12)相連。

2.根據權利要求1所述的氦氖激光器模式分析實驗裝置，其特征在于：所述探測器(9)為高速光電放大探測器。

3.根據權利要求1所述的氦氖激光器模式分析實驗裝置，其特征在于：所述滑動座(3)上設有二維調節架。

4.根據權利要求1所述的氦氖激光器模式分析實驗裝置，其特征在于：所述氦氖激光器(5)內有兩支激光管。

5.根據權利要求1所述的氦氖激光器模式分析實驗裝置，其特征在于：所述直流偏置電源的輸出電壓在0-250V連續可調，輸出頻率為20-510Hz。

6.根據權利要求4所述的氦氖激光器模式分析實驗裝置，其特征在于：所述光學導軌(2)的長度為1-1.5m。