[實用新型]一種脈沖激光多光束多靶材共沉積裝置有效
| 申請號: | 201721582646.0 | 申請日: | 2017-11-23 |
| 公開(公告)號: | CN208055453U | 公開(公告)日: | 2018-11-06 |
| 發明(設計)人: | 胡凱;張曉軍;辛安玲玲 | 申請(專利權)人: | 深圳市矩陣多元科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/34 | 分類號: | C23C14/34 |
| 代理公司: | 深圳市華優知識產權代理事務所(普通合伙) 44319 | 代理人: | 余薇 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市南山區西*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 靶材 激光射線 本實用新型 共沉積裝置 激光發射器 激光控制器 脈沖激光 多光束 多靶 基板 濺射 分時切換 激光器 可調 投射 激光 聚焦 室內 發射 | ||
1.一種脈沖激光多光束多靶材共沉積裝置,其特征在于,包括:設置于真空室內的激光發射器、激光控制器、不同位置的多個靶材及基板;其中,所述激光發射器發射指定強度的激光射線,所述激光控制器接收所述激光射線,并控制所述激光射線在指定時刻聚焦投射到指定的所述靶材上,以使靶材的原子濺射到所述基板上。
2.根據權利要求1所述的脈沖激光多光束多靶材共沉積裝置,其特征在于,所述激光控制器包括第一反射鏡、驅動器及與靶材數量相等的設置于指定位置的第二反射鏡,所述激光發射器以指定角度向所述第一反射鏡發射激光射線,所述驅動器連接所述第一反射鏡,用以控制改變所述第一反射鏡的位置,并使所述激光射線經所述第一反射鏡反射射出后分時投射到不同的所述第二反射鏡上,所述激光射線經不同的第二反射鏡反射射出后聚焦投射到不同位置的靶材上。
3.根據權利要求1所述的脈沖激光多光束多靶材共沉積裝置,其特征在于,所述激光控制器包括第一反射鏡、第二反射鏡及驅動器,所述激光發射器以指定角度向所述第一反射鏡發射激光射線,所述激光射線經所述第一反射鏡反射射出后所述第二反射鏡上,所述驅動器連接所述第二反射鏡,用以驅動改變所述第二反射鏡的位置,并使激光射線從所述第二反射鏡反射射出后,分時的投射到不同位置的靶材上。
4.根據權利要求3所述的脈沖激光多光束多靶材共沉積裝置,其特征在于,所述驅動器控制所述第二反射鏡移動的方式為沿所述第一反射鏡反射射出的光路方向;或者設置與靶材數量相等的第二反射鏡,所述驅動器控制所述多個第二反射鏡以一中心轉動,以使所述激光射線經所述第二反射鏡其中一者反射后,分時的投射到對應的一個靶材上,所述驅動器控制多個第二反射鏡移動的方式包括控制第二反射鏡平移及控制第二反射鏡轉動。
5.根據權利要求1所述的脈沖激光多光束多靶材共沉積裝置,其特征在于,所述激光控制器包括第一反射鏡、第二反射鏡及驅動器,所述激光發射器以指定角度向所述第一反射鏡發射激光射線,所述激光射線經所述第一反射鏡反射射出后所述第二反射鏡上,所述驅動器連接所述多個靶材,用以控制移動所述靶材的位置,以使所述激光射線分時的投射到不同位置的靶材上。
6.根據權利要求5所述的脈沖激光多光束多靶材共沉積裝置,其特征在于,所述激光控制器還所述包括一聚光鏡,所述聚光鏡設置于所述第二反射鏡和所述靶材之間,所述第二反射鏡反射的激光射線經所述聚光鏡匯聚后投射到靶材上。
7.根據權利要求6所述的脈沖激光多光束多靶材共沉積裝置,其特征在于,所述激光控制器包括第一反射鏡、第二反射鏡、聚光鏡及驅動器,所述激光發射器以指定角度向所述第一反射鏡發射激光射線,所述激光射線經所述第一反射鏡反射射出后所述第二反射鏡上,經第二反射鏡反射后投射到聚光鏡,所述驅動器連接所述聚光鏡,用以控制所述聚光鏡移動,或者通過一轉盤控制所述聚光鏡轉動至指定角度,以使所述激光射線分時的投射到不同的靶材上。
8.根據權利要求6所述的脈沖激光多光束多靶材共沉積裝置,其特征在于,所述激光控制器包括第一反射鏡、第二反射鏡、聚光鏡及驅動器,所述驅動器連接所述第一反射鏡,用以控制所述第一反射鏡以一中心點進行轉動,通過轉動不同角度,以使激光射線從第一反射鏡反射射出后投射到不同的第二反射鏡,再由不同的第二反射鏡反射后,經聚光鏡匯聚,分時的投射到不同的靶材上。
9.根據權利要求8所述的脈沖激光多光束多靶材共沉積裝置,其特征在于,所述驅動器連接所述第二反射鏡,用以控制所述第二反射鏡以一中心點進行轉動,使激光射線經第二反射鏡反射,經聚光鏡匯聚后,分時的投射到不同位置的靶材上。
10.根據權利要求6所述的脈沖激光多光束多靶材共沉積裝置,其特征在于,所述激光控制器包括第一反射鏡、第二反射鏡、聚光鏡及驅動器,所述驅動器連接所述靶材和所述基板,用以控制所述靶材和基板以相同的速度同時轉動,當激光射線從激光發射器發射,經第一反射鏡、第二反射鏡的反射及聚光鏡的匯聚后,分時的投射到每一靶材上。
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