[實用新型]熱熔設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201721570366.8
• 申請日: 2017-11-21
• 公開（公告）號: CN207747430U
• 公開（公告）日: 2018-08-21
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 朱長征
• 申請（專利權(quán)）人: 三威實業(yè)（珠海）有限公司;珠海三威注塑模具有限公司
• 主分類號: B29C65/02
• 分類號: B29C65/02;B29C65/78;B29L31/30
• 代理公司: 珠海智專專利商標(biāo)代理有限公司 44262
• 代理人: 黃國豪

1.熱熔設(shè)備，包括機架、水平平移機構(gòu)、垂向平移機構(gòu)和熱熔機構(gòu)，所述水平平移機構(gòu)包括水平氣缸、沿水平方向滑動配合的軌道和水平平移部，所述軌道和所述水平氣缸固定設(shè)置在所述機架的下部，所述水平平移部連接于所述水平氣缸的輸出端，所述水平平移部上設(shè)置有放置位；所述垂向平移機構(gòu)設(shè)置在所述水平平移機構(gòu)上方，所述熱熔機構(gòu)設(shè)置在所述垂向平移機構(gòu)上；

其特征在于：

所述垂向平移機構(gòu)包括垂向平移部、絲桿和電機，所述絲桿與所述電機的輸出端連接，所述垂向平移部與所述絲桿配合；

所述熱熔機構(gòu)包括垂向氣缸和連接在所述垂向氣缸的輸出端的壓頭，所述壓頭上設(shè)置有多個熱熔頭、定位桿和冷卻噴頭，多個所述熱熔頭的下端位于多個不同的水平面上，每個所述熱熔頭側(cè)邊均設(shè)置有一個所述冷卻噴頭；

所述定位桿為彈性桿或阻尼桿，所述定位桿的下端面所在的水平位置低于所述熱熔頭的下端面所在的水平位置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熱熔設(shè)備，其特征在于：

所述壓頭上還設(shè)置有定位板，所述定位板與壓頭之間連接有彈性桿或阻尼桿，所述熱熔頭穿過所述定位板。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的熱熔設(shè)備，其特征在于：

所述熱熔機構(gòu)包括熱熔機構(gòu)保護罩，所述熱熔機構(gòu)保護罩設(shè)置在所述壓頭的下部，所述熱熔機構(gòu)保護罩包圍所述熱熔頭、所述定位桿和所述冷卻噴頭；

所述熱熔機構(gòu)保護罩采用透光材料制成。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的熱熔設(shè)備，其特征在于：

所述熱熔設(shè)備包括設(shè)備保護罩，所述設(shè)備保護罩設(shè)置在所述機架上并包圍所述水平平移機構(gòu)、所述垂向平移機構(gòu)和所述熱熔機構(gòu)；

所述設(shè)備保護罩采用透光材料制成。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的熱熔設(shè)備，其特征在于：

所述熱熔設(shè)備還包括光電感應(yīng)器，所述光電感應(yīng)器設(shè)置在所述放置位上。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的熱熔設(shè)備，其特征在于：

所述垂向氣缸為行程可調(diào)氣缸。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的熱熔設(shè)備，其特征在于：

所述垂向氣缸為磁性氣缸。

8.根據(jù)權(quán)利要求1至7任一項所述的熱熔設(shè)備，其特征在于：

所述電機水平設(shè)置，所述絲桿垂向設(shè)置，所述電機的輸出端與所述絲桿之間設(shè)置錐齒輪組。