[實用新型]石墨烯印刷設備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201721566117.1 | 申請日: | 2017-11-21 |
| 公開(公告)號: | CN207738841U | 公開(公告)日: | 2018-08-17 |
| 發(fā)明(設計)人: | 汪玉冬;金明江;應仁龍 | 申請(專利權)人: | 杭州龍燦液態(tài)金屬科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/26 | 分類號: | C23C16/26;C23C16/44;C23C16/04 |
| 代理公司: | 杭州凱知專利代理事務所(普通合伙) 33267 | 代理人: | 邵志 |
| 地址: | 310000 浙江省*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 石墨烯 磁性粉體 印刷設備 基板 本實用新型 生長催化劑 混合體 磁極 加熱裝置 腔體內部 設備結構 出料口 料口 腔體 承載 移動 | ||
本實用新型涉及石墨烯技術領域,尤其涉及一種用于石墨烯印刷設備。本實用新型的目的是通過如下技術方案來完成的,石墨烯印刷設備,包括:腔體,設有加熱裝置;基板,放置于腔體內部,用于承載磁性粉體和石墨烯生長催化劑的混合體;磁極,用于控制所述混合體移動;磁性粉體料口,其出料口朝向基板,用于向基板上的石墨烯生長催化劑添加磁性粉體。該種設備結構簡單,成本低,整個實現(xiàn)過程簡單方便。
技術領域
本實用新型涉及石墨烯技術領域,尤其涉及一種用于石墨烯印刷設備。
背景技術
石墨烯是目前發(fā)現(xiàn)的最薄、強度最大、導電導熱性能最強的一種二維納米材料,受到科學界和產(chǎn)業(yè)界的熱切關注。石墨烯幾乎完全透明的,同時又非常致密,非常適合作為透明電子產(chǎn)品的原料,如透明的觸摸顯示屏、發(fā)光板和太陽能電池板。
石墨烯的制備技術主要包括微機械剝離、外延生長、化學氣象沉積CVD法和氧化石墨還原等方法。其中,通過化學氣象沉積CVD技術制備石墨烯的方法獲得的石墨烯質量優(yōu)異,特別適合于微電子器件等應用領域,被認為是最具潛力的有望用于工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)的技術方式。三星公司使用這種方法獲得了對角長度為30英寸的單層石墨烯,顯示出這種方法作為產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)方法的巨大潛力。韓國成均館大學和三星公司的研究人員已經(jīng)制造出由多層石墨烯和聚酯片基底組成的透明可彎曲顯示屏。
但是,石墨烯連續(xù)化圖案(印刷)制造仍然需要進一步研究,如何實現(xiàn)工藝簡單低成本和環(huán)境要求制造,是目前亟待解決的技術難題。
發(fā)明內容
本實用新型的目的在于克服上述存在的問題,提供一種石墨烯印刷設備。
本實用新型的目的是通過如下技術方案來完成的,
石墨烯印刷設備,包括:
腔體,設有加熱裝置;
基板,放置于腔體內部,用于承載磁性粉體和石墨烯生長催化劑的混合體;
磁極,用于控制所述混合體移動;
磁性粉體料口,其出料口朝向基板,用于向基板上的石墨烯生長催化劑添加磁性粉體。
作為優(yōu)選,所述印刷設備還包括與磁極相連、能夠根據(jù)預先設計圖案控制磁極運動軌跡和速度的磁極運動控制裝置。
作為優(yōu)選,所述印刷設備還包括設置于腔體上的進氣口和出氣口;其中進氣口用于向腔內通入碳氫化合物氣體(作為碳源)、惰性氣體和氫氣(確保獲得優(yōu)質的石墨烯,同時避免氧化)的混合氣體;出氣口用于抽真空。
作為優(yōu)選,所述基板采用氧化硅制成。
作為優(yōu)選,所述磁極與所述混合體之間的距離為0.5~3cm。
作為優(yōu)選,所述磁性粉體為鐵粉、鎳粉、鈷粉、釹鐵硼粉中的一種或幾種,粉體粒徑為0.5~200微米。
作為優(yōu)選,所述混合體移動速率為0.1~0.5mm/分鐘。
作為優(yōu)選,在所述基板上形成的石墨烯印刷圖案的寬度為0.5~1.5mm,厚度為1~3原子層。
作為優(yōu)選,所述磁極的運動矢量方向與基板平行。
本實用新型與現(xiàn)有技術相比有如下優(yōu)點和效果:1、利用磁極與石墨烯生長催化劑、磁粉之間的磁力,控制石墨烯生長催化劑和磁性粉體混合體在器件表面運動,實現(xiàn)石墨烯印刷,石墨烯分布均勻,質量高,厚度1-3原子層,且微觀結構完整,晶體缺陷密度很低;同時石墨烯圖案與磁極運動軌跡一致。2、結構簡單,成本低,整個實現(xiàn)過程簡單方便,且對于硬件要求低。
附圖說明
圖1是本實用新型石墨烯印刷設備結構示意圖。
具體實施方式
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- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





