[實用新型]半導體切片設備清洗液聯供系統

有效

• 申請號: 201721565007.3
• 申請日: 2017-11-21
• 公開（公告）號: CN207547135U
• 公開（公告）日: 2018-06-29
• 發明（設計）人: 柯漢忠
• 申請（專利權）人: 廣東科信實業有限公司
• 主分類號: B08B3/02
• 分類號: B08B3/02;B08B3/08;B08B13/00;H01L21/67
• 代理公司: 深圳英聚知識產權代理事務所(普通合伙) 44471
• 代理人: 劉煥敏

本實用新型公開了一種半導體切片設備清洗液聯供系統，其包括半導體切片機和清洗供排裝置，所述半導體切片機設有注水口和排水口；該清洗供排裝置包括清洗液容器、電泵、注水管和排水管，所述電泵安裝于所述清洗液容器上，所述注水口經由所述注水管與一純水管連接，所述排水口經由所述排水管與一排水匯管連接；所述電泵的出水口經由一清洗液管連接至所述注水管。本實用新型的半導體切片設備清洗液聯供系統，通過半導體切片機與清洗供排裝置連接，能夠在半導體切片設備自動沖刷和清洗時，利用清洗液有效的祛除油漬等頑固的附著物，從而提高產品的質量。

技術領域

本實用新型涉及一種半導切片設備，尤其是涉及一種半導體切片設備清洗液聯供系統。

背景技術

半導體的生產過程中，在開始工序中需要先切割晶圓，在切割晶圓的過程中，一般都使用半導體切片設備，使用后，半導體切片設備會自動沖刷和清洗時用純水加壓沖洗，但由于純水無法完全祛除油漬等頑固的附著物，清洗效果不徹底，會導致產品質量受到影響。

實用新型內容

本實用新型解決的技術問題是提供一種半導體切片設備清洗液聯供系統，能夠有效提高清洗效果，提高產品質量。

本實用新型的技術解決方案是：

一種半導體切片設備清洗液聯供系統，其特征在于，其包括半導體切片機和清洗供排裝置，所述半導體切片機設有注水口和排水口；該清洗供排裝置包括清洗液容器、電泵、注水管和排水管，所述電泵安裝于所述清洗液容器上，所述注水口經由所述注水管與一純水管連接，所述排水口經由所述排水管與一排水匯管連接；所述電泵的出水口經由一清洗液管連接至所述注水管。

如上所述的半導體切片設備清洗液聯供系統，其中，所述清洗液容器設有監控清洗液容量的液位探測器。

如上所述的半導體切片設備清洗液聯供系統，其中，所述液位探測器上設有液位門限報警裝置。

如上所述的半導體切片設備清洗液聯供系統，其中，所述電泵上設有用以控制清洗液供給流量的流量控制器。

如上所述的半導體切片設備清洗液聯供系統，其中，所述清洗液管經由一三通閥連接所述注水管及純水管。

如上所述的半導體切片設備清洗液聯供系統，其中，所述三通閥上連接所述純水管的一端設有單向閥。

由以上說明得知，本實用新型與現有技術相比較，確實可達到如下的功效：

本實用新型的半導體切片設備清洗液聯供系統，通過半導體切片機與清洗供排裝置連接，能夠在半導體切片設備自動沖刷和清洗時，利用清洗液有效的祛除油漬等頑固的附著物，從而提高產品的質量。

附圖說明

圖1為本實用新型的較佳實施例的結構示意圖。

主要元件標號說明：

本實用新型：

1：半導體切片機 2：電泵 3：清洗液容器

4：注水管 5：排水管 6：注水口

7：排水口 8：清洗液管 9：純水管

10：排水匯管

具體實施方式

為了對本實用新型的技術特征、目的和效果有更加清楚的理解，現對照附圖說明本實用新型的具體實施方式。