[實用新型]一種拋光研磨機的上盤水冷機構

有效

• 申請號: 201721540703.9
• 申請日: 2017-11-15
• 公開（公告）號: CN207387447U
• 公開（公告）日: 2018-05-22
• 發明（設計）人: 李創宇;范鏡;張彥志
• 申請（專利權）人: 深圳賽貝爾自動化設備有限公司
• 主分類號: B24B55/03
• 分類號: B24B55/03
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型公開了一種拋光研磨機的上盤水冷機構，包括進水組件，進水組件包括套筒和三個水封，套筒松套在上盤連接軸的中部；水封安裝在套筒的內孔中，沿上盤連接軸的軸向將套筒的內腔分隔成兩個環形腔；上盤連接軸包括兩條軸向水道，軸向水道包括上出入口和下出入口，軸向水道的上出入口位于上盤連接軸的上部，第一軸向水道的下出入口與第一環形腔連通，第二軸向水道的下出入口與第二環形腔連通；套筒包括兩個出入口，套筒的第一出入口與第一環形腔連通，套筒的第二出入口與第二環形腔連通；套筒的兩個出入口分別通過管道與上盤冷卻水套的出入口連通。本實用新型的進水組件結構簡單，占用設備的軸向尺寸較小，可以降低設備的尺寸和成本。

技術領域]

本實用新型涉及拋光機或研磨機，尤其涉及一種拋光研磨機的上盤水冷機構。

背景技術]

傳統的研磨或拋光機實用于加工超薄硬脆性材料薄形精密零件的2D；2.5D；3D加工，傳統機型因上盤沒設計水冷結構，磨盤與工件長時間在加工過程中的接觸，造成磨盤與磨液發熱，磨液蒸發快，容易產生對產品表面的損傷。研磨拋光使用的磨液對溫度有一定的使用要求，過高的溫度會使磨液中的水份過快的蒸發掉，導致磨液容易結晶，從而使磨液的損耗量增加，并機器上使用的磨具有些是使用膠水粘合的，過高的溫度會使磨具脫膠，從而降低了磨具的使用壽命。

專利號為CN201620216781.2的實用新型提供了一種拋光研磨機的上盤水冷機構，包括吊板、水冷壓板、定盤支柱和進水組件，上述水冷壓板用于與上盤密封連接，上述的吊板與水冷壓板平行設置，上述定盤支柱的兩端分別固連在吊板和水冷壓板上，所述的進水組件上具有連接部一和連接部二，所述連接部一和連接部二軸向固連且能周向轉動，所述連接部一與連接部二之間具有能將水導入水冷壓板與上盤之間的間隙處。

該實用新型的進水組件結構復雜，占用設備的軸向尺寸較大。

發明內容]

本實用新型要解決的技術問題是提供一種進水組件結構簡單，占用設備的軸向尺寸較小的拋光研磨機的上盤水冷機構。

為了解決上述技術問題，本實用新型采用的技術方案是，一種拋光研磨機的上盤水冷機構，包括進水組件，拋光研磨機包括機架、上盤升降機構和上盤，上盤升降機構包括提升氣缸和上盤連接軸，提升氣缸通過上盤連接軸與上盤連接；上盤包括冷卻水套，進水組件包括套筒和三個水封，套筒松套在上盤連接軸的中部；水封安裝在套筒的內孔中，三個水封的內緣與上盤連接軸適配，沿上盤連接軸的軸向將套筒的內腔分隔成兩個環形腔；上盤連接軸包括兩條軸向水道，軸向水道包括上出入口和下出入口，軸向水道的上出入口位于上盤連接軸的上部，第一軸向水道的下出入口與第一環形腔連通，第二軸向水道的下出入口與第二環形腔連通；套筒包括兩個出入口，套筒的第一出入口與第一環形腔連通，套筒的第二出入口與第二環形腔連通；套筒的兩個出入口分別通過管道與上盤冷卻水套的出入口連通。

以上所述的上盤水冷機構，進水組件包括滾動軸承，滾動軸承的外圈固定在套筒的內孔中，內圈固定在上盤連接軸上。

以上所述的上盤水冷機構，上盤連接軸包括連接軸和不銹鋼套，不銹鋼套緊套在連接軸的中部，不銹鋼套的壁上包括兩個通孔；所述的軸向水道位于連接軸中，所述的通孔作為軸向水道的下出入口與軸向水道的下端連通；滾動軸承的內圈固定在連接軸上，壓在不銹鋼套的頂面上；水封的內緣與不銹鋼套的外周適配。

以上所述的上盤水冷機構，上盤包括盤體、萬向平衡機構、托盤和復數根立柱，托盤布置在盤體的上方，托盤與盤體通過立柱連接；萬向平衡機構固定在托盤的中部，與上盤連接軸的下部通過關節軸承連接。