[實用新型]一種旋轉式真空鍍膜機

有效

• 申請號: 201721530747.3
• 申請日: 2017-11-16
• 公開（公告）號: CN207507707U
• 公開（公告）日: 2018-06-19
• 發明（設計）人: 周小燕;何林李
• 申請（專利權）人: 溫州大學
• 主分類號: B05B13/02
• 分類號: B05B13/02;B05B13/04;B05B14/40;B05B14/46;B05B16/00
• 代理公司: 溫州名創知識產權代理有限公司 33258
• 代理人: 陳加利

本實用新型公開了一種旋轉式真空鍍膜機，包括鍍膜機主體，所述鍍膜機主體的內腔底端中部設置有導向凸起，鍍膜機主體的內腔底部邊緣設置有收集槽，鍍膜機主體的側壁上設置有電控滑軌，電控滑軌通過連接管與活動噴頭連接，鍍膜機主體的端側壁上設置有環形空槽，環形空槽位于電控滑軌的上方，環形空槽內設置有活動板，活動板通過L形連接桿與電控滑軌連接，活動板上固定安裝有容納箱，容納箱的底部設置有循環管，循環管遠離容納箱的一端插入收集槽內。本實用新型通過在鍍膜機主體內設置有電控滑軌和活動板，使得活動噴頭能夠在環形軌道運動的同時，對噴涂材料進行鍍膜工作，提高了本裝置的工作效率。

技術領域

本實用新型涉及鍍膜機相關技術領域，特別涉及一種旋轉式真空鍍膜機。

背景技術

真空鍍膜機主要指一類在較高真空度下對工件進行鍍膜的設備，其中，鍍膜的技術具有很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。需要鍍膜的對象被稱為工件(或基片)，需要鍍在工件上的材料被稱為靶材，如硅靶、鈮靶、鋁靶、鈦靶等。工件與靶材同在真空腔中。在真空條件下，通入一定氣壓的氬氣，氬氣在高電壓(300-800V)電場作用下電離為氬離子，氬離子加速轟擊靶材，從而將靶材材料濺射到工件表面，形成薄膜。但是一般的鍍膜機不能進行環形軌道鍍膜，因此鍍膜時間很長，不能提高鍍膜的效率；而且一般的鍍膜機沒有設置收集裝置，對材料造成了極大地浪費。因此，發明一種旋轉式真空鍍膜機來解決上述問題很有必要。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種旋轉式真空鍍膜機，以解決上述背景技術中提出的問題。

為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案：一種旋轉式真空鍍膜機，包括鍍膜機主體，所述鍍膜機主體的內腔底端中部設置有導向凸起，所述鍍膜機主體的內腔底部邊緣設置有收集槽，所述鍍膜機主體的側壁上設置有電控滑軌，所述電控滑軌通過連接管與活動噴頭連接，所述鍍膜機主體的端側壁上設置有環形空槽，所述環形空槽位于電控滑軌的上方，所述環形空槽內設置有活動板，所述活動板通過L形連接桿與電控滑軌連接，所述活動板上固定安裝有容納箱，所述容納箱的底部設置有循環管，所述循環管遠離容納箱的一端插入收集槽內，所述鍍膜機主體的頂部設置有蓋板，所述蓋板的底端中部設置有連接塊，所述連接塊的底部設置有固定板，所述固定板的內側設置有貼合板，所述貼合板靠近固定板的一端設有連通管，所述連通管遠離貼合板的一端貫穿固定板并與貼合塊固定連接，所述貼合塊的外側貼合設置有噴涂材料，所述連接塊的中部設置有抽氣裝置，所述抽氣裝置的底部通過通氣管與連通管連接，所述抽氣裝置的頂部設置有電磁閥，所述電磁閥的頂部設置有出氣口，所述出氣口位于蓋板內，所述蓋板的一側設置有真空泵連接管。

優選的，所述活動噴頭與連接管通過銷軸連接，且銷軸上設置有微型電機。

優選的，所述活動板的底部設置有滾珠，滾珠的底部位于空槽底部的環形滑道內。

優選的，所述固定板設置有多個，多個固定板呈環形陣列分布。

優選的，所述噴涂材料為環形結構，所述固定板、連通管和貼合塊均位于噴涂材料的內側。

優選的，所述貼合塊的外側設置有彈性連接層，彈性連接層與噴涂材料的內側貼合連接，且彈性連接層上設置有氣孔。

本實用新型的技術效果和優點：本實用新型通過在鍍膜機主體內設置有電控滑軌和活動板，使得活動噴頭能夠在環形軌道運動的同時，對噴涂材料進行鍍膜工作，提高了本裝置的工作效率；在鍍膜機主體的底部設置有收集槽，通過循環管可將滴落的噴料收集再次利用，提高了材料的利用率；蓋板上的抽氣裝置通過氣管、連通管和貼合塊，能夠將噴涂材料吸附固定，使得噴涂材料便于固定和更換，進一步提高了本裝置的工作效率。

附圖說明

圖1為本實用新型結構剖面示意圖；

圖2為本實用新型固定板結構俯視示意圖；