[實(shí)用新型]一種GPP芯片光刻工藝用對準(zhǔn)版圖有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201721504461.8 | 申請日： | 2017-11-01 |
| 公開（公告）號： | CN207799334U | 公開（公告）日： | 2018-08-31 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 程德明;胡建業(yè);胡志堅(jiān);胡翰林;汪華鋒 | 申請（專利權(quán)）人： | 黃山硅鼎電子有限公司 |
| 主分類號： | G03F9/00 | 分類號： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 245600 安*** | 國省代碼： | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 對準(zhǔn) 光刻工藝 本實(shí)用新型 十字線圖形 對準(zhǔn)記號 對準(zhǔn)區(qū)域 對準(zhǔn)圖形 方案改進(jìn) 制造成本 傳統(tǒng)的 粗調(diào) 精調(diào) | ||
1.一種GPP芯片光刻工藝用對準(zhǔn)版圖，其結(jié)構(gòu)特征在于：所述對準(zhǔn)版圖，由二個版圖圖案組成，分別記為上光刻板版圖圖案和下光刻板版圖圖案；將傳統(tǒng)的單純十字線圖形方案改進(jìn)為有三個對準(zhǔn)區(qū)域的對準(zhǔn)方案，既能粗調(diào)找對準(zhǔn)記號、又能精調(diào)對準(zhǔn)圖形。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種GPP芯片光刻工藝用對準(zhǔn)版圖，其上光刻板版圖圖案結(jié)構(gòu)特征在于：圖案外形為圓形，圓形外直徑根據(jù)產(chǎn)品要求可設(shè)為1～2.54毫米，畫圓所用的有鉻膜環(huán)線寬為6～30微米，圓中設(shè)有四個有鉻膜扇形區(qū)，各區(qū)間相隔平行寬度為0.2～0.5毫米，平行區(qū)中心設(shè)有二條相互垂直的有鉻膜線，每條有鉻膜線均勻分為9段，由5段粗線和4段細(xì)線相間組成，細(xì)線寬度根據(jù)光刻精度要求取2～10微米，粗線寬度取細(xì)線寬度的三倍為6～30微米。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種GPP芯片光刻工藝用對準(zhǔn)版圖，其下光刻板版圖圖案結(jié)構(gòu)特征在于：圖案外形為圓形，圓形外直徑為上光刻板圓形外直徑另減12～60微米，畫圓所用的有鉻膜環(huán)線寬為6～30微米，圓中設(shè)有四個有鉻膜扇形區(qū)，各區(qū)間相隔平行寬度為上光刻板相隔平行寬度另加12～60微米，平行區(qū)中心設(shè)有二條相互垂直有鉻膜細(xì)線，細(xì)線寬度與上光刻細(xì)線寬度相同。
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