[實(shí)用新型]線圈盤座、線圈盤以及電磁烹飪器具

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201721498564.8
• 申請(qǐng)日: 2017-11-09
• 公開（公告）號(hào): CN207369341U
• 公開（公告）日: 2018-05-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 易亮;任玉潔;蘇暢
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 佛山市順德區(qū)美的電熱電器制造有限公司
• 主分類號(hào): H05B6/36
• 分類號(hào): H05B6/36;H05B6/38
• 代理公司: 深圳市世紀(jì)恒程知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44287
• 代理人: 胡海國(guó)

本實(shí)用新型公開一種線圈盤座、線圈盤以及電磁烹飪器具，其中，所述線圈盤座的上盤面設(shè)有內(nèi)環(huán)線槽及環(huán)設(shè)于所述內(nèi)環(huán)線槽外側(cè)的外環(huán)線槽，所述內(nèi)環(huán)線槽具有第一深度，所述外環(huán)線槽具有第二深度，所述第一深度小于所述第二深度，以使所述內(nèi)環(huán)線槽內(nèi)的繞線高度小于所述外環(huán)線槽內(nèi)的繞線高度。根據(jù)上述結(jié)構(gòu)設(shè)置，可以降低線圈盤中部?jī)?nèi)環(huán)區(qū)域的磁場(chǎng)強(qiáng)度，從而提高線圈盤產(chǎn)生磁場(chǎng)的均勻性，從而使線圈盤和電磁烹飪器具加熱更加均勻。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及電磁加熱技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種線圈盤座、線圈盤以及電磁烹飪器具。

背景技術(shù)

線圈盤座是電磁烹飪器具中的重要組件之一，線圈盤座用于繞制線圈和安裝磁條，以制作線圈盤，線圈盤所產(chǎn)生的高頻交變電磁場(chǎng)在被加熱體中產(chǎn)生渦流，以實(shí)現(xiàn)電磁加熱。

現(xiàn)有的線圈盤多采用一環(huán)繞制，即在線圈盤座中部開設(shè)一環(huán)形槽，在所述環(huán)形槽底壁上凸設(shè)多個(gè)繞線隔筋，以形成多個(gè)繞線槽，然后在繞線槽內(nèi)繞制線圈。但此類線圈盤的加熱范圍主要集中在環(huán)形槽處，且線圈盤內(nèi)外加熱溫度相差較大，加熱均勻性比較差。

現(xiàn)有的線圈盤還有的采用多環(huán)繞制，即在線圈盤座上開設(shè)多個(gè)同心環(huán)形槽，并在環(huán)形槽內(nèi)設(shè)置繞線槽。但此類線圈盤未設(shè)置各環(huán)形槽內(nèi)的線圈與加熱部件距離，導(dǎo)致各環(huán)對(duì)加熱部件影響不確定，最終都無(wú)法調(diào)整磁場(chǎng)強(qiáng)度均勻性，從而使得線圈盤加熱均勻性差。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的主要目的是提供一種線圈盤座，旨在解決現(xiàn)有線圈盤座制成的線圈盤加熱均勻性差的技術(shù)問(wèn)題。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供一種線圈盤座，用于電磁烹飪器具，所述線圈盤座的上盤面設(shè)有內(nèi)環(huán)線槽及環(huán)設(shè)于所述內(nèi)環(huán)線槽外側(cè)的外環(huán)線槽，所述內(nèi)環(huán)線槽具有第一深度，所述外環(huán)線槽具有第二深度，所述第一深度小于所述第二深度，以使所述內(nèi)環(huán)線槽內(nèi)的繞線高度小于所述外環(huán)線槽內(nèi)的繞線高度。

優(yōu)選地，所述內(nèi)環(huán)線槽的槽口與所述外環(huán)線槽的槽口位于同一高度。

優(yōu)選地，所述第一深度d大于或等于1.7毫米。

優(yōu)選地，所述第二深度D小于或等于15毫米。

優(yōu)選地，所述內(nèi)環(huán)線槽底壁的外表面高于所述外環(huán)線槽底壁的外表面。

優(yōu)選地，所述內(nèi)環(huán)線槽底壁的外表面與所述外環(huán)線槽底壁的外表面之間的高度差大于或等于1.5毫米。

優(yōu)選地，所述內(nèi)環(huán)線槽底壁的外表面與所述外環(huán)線槽底壁的外表面之間的高度差小于或等于13毫米。

優(yōu)選地，所述內(nèi)環(huán)線槽與所述外環(huán)線槽間隔設(shè)置。

本實(shí)用新型還提供一種線圈盤，用于電磁烹飪器具，所述線圈盤包括線圈盤座、以及分別繞制在所述內(nèi)環(huán)線槽和外環(huán)線槽內(nèi)的內(nèi)環(huán)線圈和外環(huán)線圈，所述外環(huán)線圈的繞線高度大與所述內(nèi)環(huán)線圈的繞線高度。

所述線圈盤座的上盤面設(shè)有內(nèi)環(huán)線槽及環(huán)設(shè)于所述內(nèi)環(huán)線槽外側(cè)的外環(huán)線槽，所述內(nèi)環(huán)線槽具有第一深度，所述外環(huán)線槽具有第二深度，所述第一深度小于所述第二深度，以使所述內(nèi)環(huán)線槽內(nèi)的繞線高度小于所述外環(huán)線槽內(nèi)的繞線高度。

本實(shí)用新型還提供一種電磁烹飪器具，包括線圈盤。所述線圈盤包括線圈盤座。

所述線圈盤座的上盤面設(shè)有內(nèi)環(huán)線槽及環(huán)設(shè)于所述內(nèi)環(huán)線槽外側(cè)的外環(huán)線槽，所述內(nèi)環(huán)線槽具有第一深度，所述外環(huán)線槽具有第二深度，所述第一深度小于所述第二深度，以使所述內(nèi)環(huán)線槽內(nèi)的繞線高度小于所述外環(huán)線槽內(nèi)的繞線高度。