[實用新型]清潔裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201721489976.5 | 申請日： | 2017-11-10 |
| 公開（公告）號： | CN207460606U | 公開（公告）日： | 2018-06-05 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 馬軍帥 | 申請（專利權(quán)）人： | 精華電子（蘇州）有限公司 |
| 主分類號： | H05K3/26 | 分類號： | H05K3/26 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 215000 江*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 清潔輥 清潔輥組 硅膠層 清潔裝置 粉塵 本實用新型 清潔能力 雜質(zhì)轉(zhuǎn)移 粘膠層 粘附 抵觸 | ||
1.一種清潔裝置，包括：機架，設(shè)置在機架上的第一清潔輥組、第二清潔輥組，其中，其特征在于，所述的第一清潔輥組包括一對第一清潔輥，所述的第二清潔輥組包括第二清潔輥，所述的第二清潔輥與第一清潔輥抵觸，且對應(yīng)設(shè)置，所述的第一清潔輥包括硅膠層，所述的第二清潔輥包括粘膠層。
2.如權(quán)利要求1所述的清潔裝置，其特征在于，所述的第一清潔輥還包括第一輥體，所述的硅膠層套設(shè)在第一輥體上。
3.如權(quán)利要求2所述的清潔裝置，其特征在于，所述的硅膠層可拆卸的設(shè)置在第一輥體上。
4.如權(quán)利要求2所述的清潔裝置，其特征在于，所述的第二清潔輥還包括第二輥體，所述的粘膠層可拆卸的設(shè)置在第二輥體上。
5.如權(quán)利要求1所述的清潔裝置，其特征在于，所述的第二清潔輥可活動的向靠近第一清潔輥和遠離第一清潔輥方向運動。
6.如權(quán)利要求5所述的清潔裝置，其特征在于，所述的機架與第二清潔輥之間還設(shè)置有伸縮裝置。
7.如權(quán)利要求6所述的清潔裝置，其特征在于，所述的伸縮裝置為設(shè)置在第二清潔輥兩端的氣缸。
8.如權(quán)利要求1所述的清潔裝置，其特征在于，所述的清潔裝置還包括監(jiān)控組件，所述的監(jiān)控組件包括計數(shù)器及與計數(shù)器連接的功能單元，所述的計數(shù)器用于監(jiān)控第二清潔輥的轉(zhuǎn)動并計數(shù)，所述功能單元包括顯示部件、音頻組件或通信模塊中的至少一種。
9.如權(quán)利要求8所述的清潔裝置，其特征在于，所述計數(shù)器設(shè)置有閥值。
10.如權(quán)利要求1所述的清潔裝置，其特征在于，所述清潔裝置還設(shè)置有控制器及存儲器。
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